WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     | 1 ||

Результаты моделирования интенсивности электролюJ(Vbias) =qdpor-SiNSUM(Gn/nI + Gp/pI). (11) минесценции в зависимости от плотности тока через структуру для различных концентраций нанокристалСовместное решение системы уравнений (6) в сталитов в пористом кремнии представлены на рис. 5.

ционарных условиях с учетом условия (7) и уравВ области плотности тока 1 А/см2, соответствующей нений (4), (5) для темпа генерации носителей заряда в структуре использованы для моделирования процессов генерации и рекомбинации носителей заряда в Al/por-Si/n-Si с учетом эффекта лавинного умножения (1), (2). Данный подход позволяет моделировать процесс излучательной рекомбинации носителей заряда в такой структуре и исследовать возможности повышения ее эффективности.

4. Результаты моделирования При моделировании электрических и излучательных характеристик структуры Al/por-Si/n-Si основное внимание уделено границе раздела por-Si/n-Si, где концентрация электронов и дырок увеличивается в результате лавинного умножения. Значения параметров, используемые в расчетах, приведены в таблице. Результаты моделирования электрических характеристик исследуемой структуры представлены на рис. 4.

Величина полного тока, протекающего через структуру, в основном определяется потоком электронов из поРис. 4. Рассчитанные электронный (1) и дырочный (2) токи ристого слоя в подложку (рис. 4, кривая 1). При этом зачерез структуру Al/por-Si/n-Si в зависимости от напряжения висимость тока от внешнего смещения характеризуется внешнего смещения в сравнении с экспериментальными дандвумя областями: при внешнем смещении Vbias < 0.8В ными [5] (3).

8 Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып. 244 Ю.А. Берашевич, С.К. Лазарук, В.Е. Борисенко электронного. Дальнейший рост внешнего смещения ведет к переходу зависимости IEL в режим насыщения за счет снижения вклада излучательной рекомбинации в результате увеличения интенсивности оже-процессов при увеличении инжекции носителей заряда в нанокристаллиты.

Эффективность излучательной рекомбинации уменьшается во всем диапазоне роста протекающего через структуру тока за счет увеличения вклада безызлучательной оже-рекомбинации при увеличении концентраn ции нанокристаллитов с N2n и N2p. Зависимость эфp фективности излучательной рекомбинации от плотности тока для различных концентраций нанокристаллитов в пористом кремнии представлена на рис. 6. Увеличение количества нанокристаллитов в пористом слое увеличивает эффективность излучательной рекомбинации в результате снижения вероятности попадания третьего носителя в нанокристаллиты Nn, уже содержащие p электронно-дырочную пару.

Рис. 5. Зависимость интенсивности электролюминесценСнижение температуры также является эффективным ции IEL от плотности тока через структуру Al/por-Si/n-Si при средством уменьшения оже-рекомбинации за счет сниразличных значениях концентрации нанокристаллитов в слое жения эффективной плотности состояний электронов пористого кремния NSUM, см-3: 1 —1018, 2 —1016, 3 —1014, 4 —1013. и дырок. Кроме того, вклад безызлучательной ожерекомбинации в нанокристаллитах кремния большого размера (> 2нм) с широкой запрещенной зоной будет снижаться при уменьшении температуры в результате снижения темпа активационного захвата носителей заряда в такие кристаллиты.

5. Заключение Разработанная модель генерации-рекомбинации носителей заряда в пористом кремнии использована для моделирования закономерностей процессов переноса и излучательной рекомбинации носителей заряда в структуре Al/por-Si/n-Si при обратном смещении в режиме лавинного пробоя. Установлено, что лавинное умножение основных носителей заряда на границе раздела por-Si/n-Si приводит к нелинейному росту концентрации неосновных носителей заряда, контролирующих интенсивность электролюминесценции. Обнаружено, что относительное снижение вклада безызлучательной оже-рекомбинации, которая подавляет излучательную рекомбиРис. 6. Зависимость эффективности излучательной рекомби- нацию, достигается увеличением концентрации нанокринации в пористом кремнии от плотности тока. NSUM, см-3: сталлитов в пористом кремнии свыше 1014 см-3.

1 —1018, 2 —1016, 3 —1014, 4 —1013.

Работа выполнена в рамках проекта T00-204, финансируемого Фондом фундаментальных исследований Белоруссии и Межуниверситетской программы фундаментальных исследований „Наноэлектроника XXI“.

внешнему смещению 3-4 В, наблюдается резкий рост дырочного тока за счет разогрева основных носителей заряда электронов, вовлекаемых в процесс лавинного Список литературы умножения и генерирующих при этом и неосновные носители заряда — дырки, поэтому зависимость IEL [1] L.T. Canham. Appl. Phys. Lett., 57, 1046 (1990).

от тока становится сверхлинейной. При внешнем сме[2] A.D. Yoffe. Adv. Phys., 42, 173 (1993).

щении более 10 В зависимость IEL от тока становится [3] D.J. Lokwood, Z.H. Liu, J.M. Baribeau. Phys. Rev. Lett., 76, линейной, так как дырочный ток достигает величины 539 (1996).

Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып. Электролюминесценция в пористом кремнии при обратном смещении барьера Шоттки [4] F. Bassani, L. Vervoot, I. Mihalescu, J.C. Vial, F. Amaud d’Avitaya. J. Appl. Phys., 79, 4066 (1996).

[5] Ю.А. Берашевич, Б.В. Каменев, В.Е. Борисенко. ФТП, 36, 221 (2002).

[6] S. Lazarouk, P. Jaguiro, S. Katsouba, G. Masini, S. La Monica, G. Maiello, A. Ferrari. Appl. Phys. Lett., 68, 2108 (1996).

[7] A.G. Cullis, L.T. Canham, D.J. Catcott. J. Appl. Phys., 82, (1997).

[8] B. Gelloz, N. Koshida. J. Appl. Phys., 88, 4319 (2000).

[9] S. Lazarouk. Towards the First Silicon Laser (Kluwer Academic Publishers, 2003) p. 61.

[10] С.К. Лазарук, П.В. Жагиро, С.М. Мельников, А.П. Прохоренко. Изв. Белорус. инж. акад., №9, 69 (2000).

[11] M. Balucani, S. La Monica, S. Lazarouk et al. Sol. St. Phenomena, 54, 8 (1997).

[12] J.A. Berashevich, A.L. Danilyuk, A.N. Kholod, V.E. Borisenko. Mater. Sci. Eng. B, 101, 111 (2003).

[13] S. Lazarouk, S. Katsouba, A. Tomlinson, S. Benedetti, C. Mazzoleni, V. Mulloni, G. Mariotto, L. Pavesi. Mater. Sci.

Eng. B, 69-70, 114 (2000).

[14] Properties of Porous Silicon, ed. by L. Canham (London, INSPEC, 1997) p. 405.

[15] М.И. Векслер, И.В. Грехов, А.Ф. Шулекин. ФТП, 34, (2000).

[16] Y. Wang, K.F. Brennan. J. Appl. Phys., 75, 313 (1994).

[17] С. Зи. Физика полупроводниковых приборов (М., Мир, 1984) с. 450.

[18] В.С. Вавилов, В.Ф. Киселев, Б.Н. Мукашев. Дефекты в кремнии и на его поверхности (М., Наука, 1990) с. 232.

Редактор Л.В. Шаронова Electroluminescence in porous silicon at reverse bias of Shottky barrier J.A. Berashevich, S.K. Lazarouk, V.E. Borisenko Belorussian State University of Informatics and Radioelectronics, 220013 Minsk, Belorussia

Abstract

Light emitting structure composed of a reverse bias Schottky barrier between porous silicon and metal electrode has been studied by modelling the electroluminescence in the porous silicon. The model developed accounts for effects of an avalanche multiplication of hot carriers and the non-radiative Auger recombination in porous silicon. Generation of minority carriers via the avalanche multiplication of major carriers results in a superlinear dependence of the luminescence intensity on the current density. Reduction of the radiative recombination under the avalanche multiplication regime is provided by increasing the nonradiative Auger recombination contribution. It has been found that the intensity of electroluminescence is increased with alongside the increase of the silicon nanocrystals concentration in the porous silicon layer.

Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып.

Pages:     | 1 ||



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.