WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Журнал технической физики, 2004, том 74, вып. 5 04;07;12 Продольный высокочастотный разряд в смеси ксенона с хлором © А.К. Шуаибов, А.И. Дащенко, И.В. Шевера Ужгородский национальный университет, 88000 Ужгород, Украина e-mail: ishev@univ.uzhgorod.ua (Поступило в Редакцию 19 июня 2003 г.) Представлены результаты исследования электрических и эмиссионных характеристик низкотемпературной плазмы продольного высокочастотного ( f = 1.76 MHz) разряда в смеси ксенона и хлора при давлении 0 100-800 Pa. Разряд зажигался в цилиндрической разрядной трубке из кварца с внутренним диаметром 1.4 cm и межэлектродным расстоянием 3.0 cm. Излучение разряда анализировалось в спектральной области 190-670 nm. Изучалась динамика протекания тока и излучения разряда в смесях ксенона с хлором при разных давлениях и составах рабочей среды. Показано, что исследуемый разряд в смеси ксенон / хлор является широкополосным эксимерно-галогенным излучателем с основным спектральным диапазоном работы 220-320 nm и цилиндрической рабочей апертурой. Широкополосный спектр излучения плазмы формируется в результате перекрытия уширенных при низком давлении газовой среды полос XeCl(D, B-X;

B, C-A). Определен оптимальный состав рабочей смеси, необходимый для получения максимальной мощности широкополосного УФ излучения плазмы. Продольный высокочастотный разряд низкого давления в смеси ксенона и хлора представляет интерес для использования в малогабаритной широкополосной ( = 220-450 nm) лампе с цилиндрической рабочей апертурой, которая в среднем более чем на порядок может быть эффективней от традиционных водородных ламп.

Введение Сильноточный высокочастотный разряд (разряд -типа) зажигался в цилиндрической разрядной трубке из кварМощные и эффективные источники спонтанного ульца. Внутренний диаметр разрядной трубки составтрафиолетового и вакуумного-ультрафиолетового (УФлял 1.4 cm, а межэлектродное расстоянием в лампе ВУФ) излучения на электронно-колебательных полосах равнялось 3.0 cm. В эксперименте использовались полые моногалогенидов Ar, Kr и Xe находят в настоящее время цилиндрические электроды из никеля длиной 1.5 cm и все более широкие применения в микроэлектронике, внешним диаметром 1.4 cm. Продольный высокочастотхимии высоких энергий, экологии, биотехнологиях и ный разряд зажигался с применением модулированного медицине [1,2]. Для накачки ламп низкого и среднего по амплитуде ( f 50 Hz) высокочастотного генератора давления наиболее часто используется тлеющий, а такнапряжения марки ЭН-57М. Рабочая частота данного исже емкостной и барьерный разряды [3–7]. Предельная точника составляла f = 1.76 MHz. Средняя мощность частота следования импульсов излучения на переходах источника ЭН-57М не превышала 250 W. Напряжение на монохлоридов и монобромидов тяжелых инертных гаэлектроды лампы подавалось через импульсный разделизов не превышает 100-200 kHz. Ограничение частоты тельный конденсатор КВИ-2 емкостью 200 pF. Амплисверху обусловлено преимущественно применяемыми туда высокочастотного напряжения достигала 5-6kV.

источниками питания ламп, работа которых базируется В режиме медленной продольной прокачки смесь ксенона использовании тиратронов и таситронов. С целью на с хлором прокачивалась через разрядную трубку со увеличения частоты повторения импульсов УФ излуческоростью 0.1 1 / min. Система и методика регистрации ния, а также устойчивости разряда в электроотрицательной газовой среде перспективным является применение высокочастотного питания разрядного промежутка эксимерно-галогенной лампы низкого давления. Так, в [8] описаны параметры лампы на хлориде ксенона с накачкой слаботочным высокочастотным разрядом через кварц. Для увеличения мощности малогабаритной лампы с цилиндрической рабочей апертурой представляет интерес использование сильноточного продольного высокочастотного разряда с оголенными электродами в смеси Xe / Cl2.

Рис. 1. Схема эксимерно-галогенной лампы с накачкой проТехника эксперимента дольным высокочастотным разрядом низкого давления: 1 — электроды, 2 — разрядная трубка, 3 — источник модулироСхема эксимерно-галогенного излучателя с цилин- ванного напряжения высокой частоты, C0 — разделительный дрической рабочей апертурой представлена на рис. 1. кондесатор.

Продольный высокочастотный разряд в смеси ксенона с хлором характеристик продольного высокочастотного разряда были такие же, как и в наших предыдущих работах [9–11]. Излучение на головку измерителя мощности спонтанного излучения „Кварц-01“ поступало через светофильтр УФС-5, отсекающий видимое и инфракрасное излучение. Регистрация импульсов суммарного излучения плазмы проводилась с помощью фотоумножителя „Фотон“ и импульсного осциллографа C1-99. УФ излучение плазмы на фотоумножитель „Фотон“ подавалось также через светофильтр УФС-5.

Излучение плазмы отбиралось в продольном направлении (направлении между электродами) через один из полых электродов. В этом случае в поле зрения фотоумножителя попадает излучение как приэлектродных слоев так и плазмы положительного столба.

Излучение плазмы разряда Основное излучение плазмы продольного высокочастотного разряда в смеси Xe / Cl2 было сконцентрировано в полосах с максимумами при 307 nm XeCl(B-X) и 236 nm XeCl(D-X) (рис. 2). При низком давлении газовой смеси в лампе процесс колебательной релаксации в пределах D- и B-состояний хлорида ксенона незавершен [12]. При этом B-X- и D-X-полосы моРис. 3. Зависимость яркости излучения полос 236 nm лекулы XeCl сильно уширены, перекрываются между XeCl (D-X) (1), 306 nm XeCl (B-X) (2) и 430 nm собой и полосой с максимумом при 257 nm Cl2(D -A ), XeCl (B-A) (3) от величины парциального давления ксенона что приводит к формированию единого континуума в при P(Cl2) =80 Pa (a) и парциального давления хлора при спектральном диапазоне 220-320 nm. По сравнению P(Xe) =280 Pa (b).

с лампами атмосферного давления [13–15] основные максимумы излучения XeCl(B-X) были смещены в более коротковолновый диапазон и проявлялись при = 307 и 289 nm. Уменьшение парциального давления полосы XeCl(B-X). На основе всех базовых полос ксенона в смеси с 500 до 50 Pa приводило к умень- излучения молекулы хлорида ксенона сформирован едишению яркости УФ излучения плазмы. В спектральном ный континуум в спектральном диапазоне 220-450 nm.

диапазоне 320-450 nm наблюдались две менее яркие В видимом диапазоне спектра излучение плазмы опредеширокие полосы излучения с максимумом при = лялось преимущественно спектральными линиями атома и 430 nm. Они отождествлены соответственно с C-A- ксенона, наиболее интенсивной из которых была лии B-A-переходами молекулы XeCl. Ширина полосы ния 467.1 nm XeI(6s-7p) (рис. 2).

XeCl(C-A) была примерно в два-три раза больше, чем Результаты оптимизации яркости полос излучения XeCl(D, B-X; B-A) в зависимости от давления и парциального состава смеси Xe / Cl2 представлены на рис. 3.

Наиболее оптимальными для получения максимальной яркости излучения хлорида ксенона было парциальное давление P(Xe) =600-800 Pa (при P(Cl2) =80 Pa), а при небольшом фиксированном давлении ксенона P(Xe) =280 Pa наиболее оптимальным было парциальное давление хлора 20-40 Pa.

Динамика изменения тока (I) и суммарного излучения (JF) продольного высокочастотного разряда в смесях ксенона с хлором представлены на рис. 4 и 5.

В верхней части рис. 4 и 5 приведены осциллограммы тока высокой частоты и суммарного излучения плазмы в субмикросекундном диапазоне времен, а в нижней части рисунков представлены усредненные за период высокочастотных колебаний ток и излучение плазмы, Рис. 2. Спектр излучения электроразрядной плазмы на основе смесей ксенона с хлором при давлении 100-500 Pa. изменение которых во времени связано с низкочастот9 Журнал технической физики, 2004, том 74, вып. 132 А.К. Шуаибов, А.И. Дащенко, И.В. Шевера модулировано по амплитуде с частотой, которая была равна удвоенной частоте тока высокочастотной накачки.

Вклад пульсирующей составляющей излучения плазмы увеличивался с ростом парциального давления хлора в смеси Xe / Cl2. Максимумы излучения плазмы (рис. и 5) соответствовали участкам спада и увеличения высокочастотной составляющей тока исследуемого разряда.

При низком давлении смеси Xe / Cl2 в тлеющем, емкостном или высокочастотном разряде одной из основных является „гарпунная“ реакция молекул XeCl [7,16,17]. В приэлектродных слоях высокочастотного разряда эффективно образуются также положительные и отрицательные ионы [18], в результате рекомбинации которых в этой ион-ионной плазме могут образовываться молекулы XeCl, Cl, в процессе спонтанного распада которых и формируется континуум в спектральном диапазоне 220-450 nm.

Рис. 4. Осциллограммы тока (1, 1 ) и суммарного УФ излуДля непрерывного поддержания этих каналов образочения (2, 2 ) плазмы продольного высокочастотного разряда в вания излучающих частиц наиболее важным является смеси P(Xe)/P(Cl2) =400/20 Pa (где 1, 2 — высокочастотные канал „гарпунной“ реакции, для которого необходимо составляющие тока и излучения; 1, 2 — соответствующие наличие стационарной во времени плотности метастаусредненные за период высокочастотных колебаний величины).

бильных атомов (Xe, Cl). Такая ситуация может быть Пунктир — постоянная составляющая излучения.

реализована в продольном высокочастотном разряде, когда плотность метастабильных атомов не уменьшается до нуля при изменении направления высокочастотной составляющей тока, а поддерживается на определенном стационарном уровне.

Из рассмотрения усредненных за период высокочастотных колебаний тока и излучения плазмы (нижняя часть рис. 4 и 5) следует, что на переднем и заднем фронтах макроимпульсов излучения формируются два-три четко выраженных узких максимума. Максимальная длительность макроимпульсов излучения уменьшается с до 6 ms при увеличении парцильного давления хлора с 20 до 80 Pa. Пичковая структура на фронтах макроимпульса излучения становится более четко выраженной с увеличением P(Cl2).

Максимальная мощность широкополосного УФ излучения разряда со всей боковой апертуры лампы находилась в диапазоне 15–20 W, а КПД лампы не прывышал 10%. Ресурс работы излучателя в газостатическом режиме не превышал 30-40 min. Он существенно увеРис. 5. Осциллограммы тока (1, 1 ) и излучения плазмы (2, 2 ) личивался при медленной продольной прокачке рабочей на смеси P(Xe)/P(Cl2) =400/80 Pa. Пунктир — постоянная среды со скоростью 0.1 1 / min. При использовании составляющая излучения.

принудительного воздушного охлажадения разрядной трубки, „горячей“ пассивировки в хлоре высокой чистоты ресурс работы лампы может быть доведен до нескольной модуляцией амплитуды высокочастотного напряжеких сотен часов, что соответствует данным для лампы ния источника ЭН-57 М. На рис. 4 и 5 представлены на системе полос XeCl / Cl с накачкой продольным только осциллограммы усредненного тока, соответствутлеющим разрядом постоянного тока.

ющие сильноточной стадии высокочастотного разряда.

Величина тока слаботочной стадии разряда при t = 0-и 7-9 ms была слишком низкой и нами не фиксирова- Заключение лась. Величина амплитуды полуволны высокочастотного тока достигала 1 A, а ее длительность составляла 300 ns. Исследование характеристик продольного высокочаИзлучение плазмы характеризовалось преимущественно стотного разряда на смеси Xe / Cl2 выявило, что он постоянной составляющей. При этом излучение было является широкополосным излучателем в спектральном Журнал технической физики, 2004, том 74, вып. Продольный высокочастотный разряд в смеси ксенона с хлором интервале 220-450 nm; превалирующим является излучение при = 307 nm XeCl(B-X); основным физическим процессом, приводящим к сдвигу максимума УФ полос излучения в коротковолновый диапазон, является колебательная релаксация; излучение плазмы характеризовалось преимущественно постоянной составляющей, а вклад переменной составляющей был незначительным и увеличивался с ростом парциального давления хлора в смеси; в околопороговых областях по величине тока разряда обнаружены узкие максимумы суммарного излучения плазмы; наиболее оптимальными для получения максимальной мощности УФ излучения были газовые смеси P(Xe)/P(Cl2) =600-800/20-40 Pa.

Список литературы [1] Kogelschatz U., Eliasson B., Egli W. // Pure Appl. Chem.

Vol. 71. N 10. P. 1819–1829.

[2] Sosnin E.A., Batalova V.N., Slepchenko G.B. // SPIE. 2001.

Vol. 4747. P. 352–357.

[3] Головицкий А.П. // Письма в ЖТФ. 1992. Т. 18. Вып. 8.

С. 73–76.

[4] Панченко А.Н., Соснин Э.А. и др. // Письма в ЖТФ. 1995.

Т. 21. Вып. 20. С. 77–80.

[5] Шуаибов А.К., Дащенко А.И., Шевера И.В. // Квантовая электрон. 2001. Т. 31. № 4. С. 371–372.

[6] Шуаибов А.К. // ЖТФ. 2002. Т. 72. Вып. 10. С. 138–142.

[7] Ломаев М.И., Скакун В.С., Соснин Э.А. и др. // УФН. 2003.

Т. 173. № 2. С. 201–217.

[8] Головицкий А.П. // Письма в ЖТФ. 1998. Т. 24. Вып. 6.

С. 63–67.

[9] Шуаибов А.К., Шимон Л.Л., Дащенко А.И., Шевера И.В. // ПТЭ. 2002. № 1. С. 104–106.

[10] Shuaibov A.K., Shimon L.L., Dashchenko A.I., Shevera I.V. // J. Phys. Stud. 2001. Vol. 5. N 2. P. 131–138.

[11] Shuaibov A., Shimon L., Dashchenko A., Shevera I. // SPIE.

2001. Vol. 4747. P. 409–416.

[12] Дацюк В.В., Измайлов И.А., Кочелап В.А. // УФН. 1998.

Т. 168. № 4. С. 439–464.

[13] Шуаибов А.К. // ЖТФ. 1998. Т. 68. Вып. 12. С. 64–67.

[14] Шуаибов А.К. // ТВТ. 1999. Т. 37. № 2. С. 188–193.

[15] Шуаибов А.К. // Опт. и спектр. 2000. Т. 88. № 5. С. 875– 879.

[16] Головицкий А.П., Кан В.Ф. // Опт. и спектр. 1993. Т. 75.

№3. С. 604–609.

[17] Головицкий А.П., Лебедев С.В. // Опт. и спектр. 1997. Т. 82.

№2. С. 251–255.

[18] Каганович И.Д. // Физика плазмы. 1995. Т. 21. № 5. С. 431– 441.




© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.