WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     || 2 |
Физика и техника полупроводников, 2005, том 39, вып. 1 Исследование фотоэлектрических свойств квантовых точек Ge в матрице ZnSe на GaAs © И.Г. Неизвестный, С.П. Супрун¶, В.Н. Шумский Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук, 630090 Новосибирск, Россия (Получена 1 июня 2004 г. Принята к печати 16 июня 2004 г.) Исследованы вольт-амперные и спектральные характеристики фототока при T = 4.2 и 300 K в ненапряженной структуре GaAs/ZnSe/КТ-Ge/ZnSe/Al с туннельно-прозрачными слоями ZnSe и Ge-квантовыми точками.

При комнатной температуре без освещения на вольт-амперных характеристиках наблюдались особенности типа „кулоновской лестницы“. На основе анализа экспериментальных данных построена энергетическая зонная диаграмма структуры. В транзисторной структуре GaAs/ZnSe/КТ-Ge/ZnSe/p-Ge с каналом из p-Ge и с плавающим затвором из Ge-квантовых точек при освещении светом разного спектрального состава наблюдалось как увеличение, так и уменьшение полного тока канала. Указанные изменения тока канала связаны с захватом положительного и отрицательного заряда на квантовых точках при разных оптических переходах. Накопление заряда ведет к изменению состояния канала вблизи гетерограницы от обеднения до инверсии и либо уменьшает, либо увеличивает полный ток.

1. Введение Цель настоящей работы заключалась в изучении электронного строения Ge-КТ в матрице ZnSe в структурах, Интерес к исследованию спектров электронных состо- полученных методом молекулярно-лучевой эпитаксии.

яний полупроводниковых квантовых точек (КТ) связан с их новыми свойствами, которые не наблюдаются в систе2. Изготовление и исследование мах более высокой размерности [1], а также с перспекструктур GaAs/ZnSe/КТ-Ge/ZnSe/Al тивой использования этих свойств для разработки новых приборов на их основе. В настоящее время в связи с с туннельно-прозрачными слоями развитием нанотехнологии появились работы, в которых ZnSe и квантовыми точками Ge обсуждается возможность создания элементов памяти на основе одноэлектронных полевых транзисторов, в 2.1. Изготовление которых один бит информации соответствует электрону, В качестве подложки-носителя использовались пласзахваченному на квантовую точку (КТ), расположенную тины GaAs с ориентацией (001) n-типа проводимости, между основным затвором и каналом. В работе [2] опилегированные до уровня 1018 см-3. Структура предсан такой элемент памяти, работающий при комнатной ставляла собой массив КТ между двумя слоями ZnSe температуре.

толщиной 10 нм, выращенных на GaAs-подложке, поИзвестно, что массивы квантовых точек получают следовательность изготовления образцов изложена в рав гетеросистемах со значительным рассогласованием боте [5]. Диаметр окна в электронном резисте, в котором постоянной решетки двух материалов. В наших работах формировался контакт к слоям, был порядка 150 нм и мы попытались найти условия трехмерного роста на контролировался атомно-силовым микроскопом.

начальной стадии эпитаксии для гетеросистемы с близкими значениями кристаллографических параметров.

Например, рассогласование по постоянной решетки для 2.2. Вольт-амперная характеристика таких полупроводников как GaAs, ZnSe, Ge менее 0.2%.

Вольт-амперные характеристики (ВАХ) структур быОднако пара GaAs/Ge отличается сильным химическим ли получены с использованием автоматизированной сивзаимодействием компонентов. Нами было показано, стемы измерения малых токов, управляемой компьютечто введение между GaAs и Ge промежуточного слоя ром. По программе на образец подавалось напряжение ZnSe позволяет получить качественно другие условия с заданным шагом, проводилось измерение тока через на начальной стадии эпитаксии. В этом случае пластина равные временные интервалы (в данном случае свыше GaAs является носителем, на котором выращивается 100 измерений) и фиксировалось среднее значение тока.

сплошная эпитаксиальная пленка ZnSe, а на ней форБыли измерены ВАХ при температуре 300 K, из-за мируется массив Ge КТ. Ранее нами был исследован и малых токов и наличия больших паразитных сигналов описан механизм формирования массива КТ в системе измерить характеристики образцов в криостате не удаGe-ZnSe [3,4]. Отметим, что при значительной разнице лось. Однако измерения тестовых структур большой в ширине запрещенной зоны ZnSe и Ge, около 2 эВ, площади показали, что при изменении температуры упругие напряжения в системе отсутствуют.

от 300 до 4.2 K ток уменьшается всего в 30-40 раз, что ¶ E-mail: suprun@thermo.isp.nsc.ru говорит о преобладании туннельных процессов.

Исследование фотоэлектрических свойств квантовых точек Ge в матрице ZnSe на GaAs На ВАХ структуры при обратном смещении до 250 мВ температурах T = 300 и 4.2 K без внешнего смещения имеются особенности в виде небольших ступенек, в приведен на вставке рис. 1. Наличие фотоэдс говорит пределах которых ток не остается постоянным, а уве- о том, что в структуре имеется встроенное электричеличивается с ростом напряжения (рис. 1). Средний ток ское поле, которое обусловлено контактной разностью через структуру определяется не только туннелировани- потенциалов. В насыщении фотонапряжение холостого ем носителей заряда через КТ, но и током сквозь плен- хода достигало 0.12 В.

ку ZnSe в промежутках между кластерами германия. Длинноволновый край спектра начинается при комОценки показывают, что этот ток — ток, ограниченный натной температуре примерно с 1.3 мкм, а при темпеобъемным зарядом. В этом случае в слабых электриче- ратуре жидкого гелия — с 1.15 мкм. Такое положение ских полях (E 105 В/см) должна наблюдаться линей- края не соответствует краю поглощения в объемном ная зависимость тока от напряжения, что действительно германии, вместе с тем его сдвиг хорошо согласуется наблюдается и наиболее ярко выражено при малых с изменением ширины запрещенной зоны в Ge при напряжениях. Главной особенностью ВАХ является то, изменении температуры от 300 до 4.2 K.

что изменения тока типа кулоновской лестницы начи- На характеристике, измеренной при температунаются при напряжении порядка 50 мВ и не являются ре 4.2 K, видны особенности, которые могут быть свястрого периодичными по напряжению. Нерегулярность заны с дискретным характером спектра. В области высов повторяемости ступенек кулоновской лестницы яв- ких энергий край спектра резко обрывается, обрезаемый ляется характерным явлением для вертикальных КТ с поглощением в подложке.

небольшим числом электронов в них и обусловлена Рассмотрим, в какой области структуры возникает сильным взаимодействием между ними. Кроме того, она фотоактивное поглощение, приводящее к возникновеможет быть связана с высокой температурой и несколько нию фотоэдс. Фотоэдс может образовываться только при различающимися размерами КТ. Появление тока и нали- возбуждении электронно-дырочных пар с их последучие особенностей ВАХ при малых напряжениях, т. е. в ющим пространственным разделением за счет встрослучае, когда разность уровней Ферми в алюминии и енного электрического поля. Очевидно, что областями арсениде галлия мала, указывает на то, что в состоянии генерации электронно-дырочных пар не могут быть равновесия, когда внешнее смещение отсутствует, по ни GaAs, ни ZnSe, так как ширина запрещенной зоны крайней мере первый квантовый уровень электрона в КТ этих соединений при T = 4.2 K больше 1.5 эВ, а примеснаходится ниже уровня Ферми металла.

ное поглощение не может привести к возникновению фотоэдс. Поглощение в массиве КТ может приводить к образованию локализованных электронов и дырок, но 2.3. Спектральные зависимости фотоэдс должен существовать механизм их пространственного разделения.

Спектральные характеристики измерялись на переВ исследуемой структуре существует встроенное менном сигнале частоты 102 Гц при освещении со электрическое поле, возникшее за счет контактной разстороны подложки. Спектр фотоответа структуры при ности потенциалов между Al и GaAs, и его величина примерно равна (3-5) · 105 В/см. Так как слои ZnSe являются туннельно-прозрачными для электронов, при фотовозбуждении электронно-дырочной пары электрон может протуннелировать в этом поле из КТ в GaAs. Далее могут в принципе осуществиться две возможности:

неравновесная дырка из КТ может протуннелировать в Al или электрон из Al может перейти к КТ. В любом случае во внешней цепи протечет фототок, а в режиме холостого хода в структуре возникнет фотоэдс.

2.4. Энергетическая зонная диаграмма структуры Экспериментальные данные: известные размеры КТ, ВАХ и спектральная зависимость фотоэдс вместе с имеющимися в литературе данными о величине разрыва Рис. 1. ВАХ структуры с контактом диаметром 150 нм при зон для гетеропар, входящих в структуру, позволяют поT = 300 K. Точки — экспериментальные данные, сплошная листроить зонную диаграмму структуры GaAs/ZnSe/КТ-Ge/ ния — аппроксимация ВАХ. На вставке показана спектральная ZnSe/Al.

зависимость фотосигнала без смещения при освещении со Зонная диаграмма рассчитывалась исходя из значений стороны GaAs: 1 — T = 300 K; 2 — T = 4.2K. Стрелками разрыва валентной зоны между GaAs и ZnSe, равноуказаны край запрещенной зоны GaAs и начало прямых переходов в объемном Ge при 4.2 K. го 1.3 эВ, ZnSe и Ge, равного 1.0 эВ. В литературе Физика и техника полупроводников, 2005, том 39, вып. 102 И.Г. Неизвестный, С.П. Супрун, В.Н. Шумский наблюдается достаточно широкий диапазон значений При этом наличие небольшого потенциала в GaAs разрыва зон между материалами, входящими в структу- не должно существенно ограничивать туннелировару, что связано с различием технологических условий ние, так как концентрация электронов в GaAs велика получения: подготовки подложки, температуры роста, (n = 1018 см-3) и толщина области пространственного стехиометрии поверхности и плоскости ориентации под- заряда вблизи гетерограницы GaAs-ZnSe не превышает ложки и ряда других факторов [6,7]. При существующем несколько нанометров. При увеличении напряжения ток разбросе данных величина разрыва зон при расчете ограничивается только зарядкой КТ, так как разница в подбиралась исходя из следующих условий: энергии между соседними электронными уровнями 1) положение 1-го квантового электронного уровня E = E1i+1 j+1 - E1i+1 j = E1i+1 j+1 - E1i j+1 < 2мэВ, в L-долине должно быть ниже, чем положение уровня Ферми системы в равновесии, которое определялось исгде первый подстрочный индекс энергии соответствует ходя из разницы работ выхода Al и GaAs, равной 0.8 эВ;

высоте, а второй и третий — основанию КТ.

2) оптический переход с минимальной энергией, измеренный в эксперименте, должен соответствовать переходу электрона с квантового уровня в валентной зоне КТ 3. Транзисторная структура на ближайший к уровню Ферми свободный электронный GaAs/ZnSe/КТ-Ge/ZnSe/p-Ge уровень.

Минимальную энергию излучения, при поглощении 3.1. Изготовление которой наблюдается фотоэдс, можно записать как Из рассмотрения зонной диаграммы (рис. 2) ясно, что в структуре с одним туннельно-непрозрачным слоем при Emin E111hh + EgGe +(Ef - EcGe), освещении в слое с КТ может происходить накопление заряда при туннелировании электрона в арсенид галлия.

где E111hh — первый квантовый уровень тяжелых Если использовать слой с КТ в качестве плавающего дырок, EgGe — ширина запрещенной зоны германия затвора в структуре полевого транзистора, где роль и Ef - EcGe — разница между уровнем Ферми и дном зоны проводимости германия, которая определяет оптический переход с минимальной энергией фотона.

Для T = 4.2 K минимальная экспериментальная энергия кванта, при которой наблюдается фотосигнал, составляет примерно 1.1 эВ. Электроны переходят на свободный незанятый квантовый уровень, расположенный выше уровня Ферми. Это объясняет тот факт, что край поглощения оказывается сдвинут в коротковолновую область относительно ожидаемого, исходя из известных размеров КТ.

Собственная емкость КТ в виде диска с диаметром 12.5 нм составляет C = 80r = 3.8 · 10-18 Ф, что дает характерную энергию около 40 мэВ. Данные, полученные методом СТМ, по размерам КТ, форме, распределению по высоте и диаметру в зависимости от средней толщины осажденного слоя германия [3,5] позволяют провести оценку энергетического спектра электронных и дырочных уровней в КТ. При расчете использовалось приближение кластера параллелепипедом размером 3 15 15 нм с учетом эффективной массы соответствующей подзоны дырок, без учета кулоновского взаимодействия при граничных условиях Бастарда. При расчете использовались величины эффективной массы носителей в ZnSe и разных долинах Ge, а также значение ширины запрещенной зоны Ge и ZnSe при температуре вблизи 0 K.

Исходя из приведенной зонной диаграммы рис. 2 в равновесном состоянии в КТ существуют уровни, расположеные ниже уровня Ферми, поэтому туннелирование Рис. 2. Зонная диаграмма структуры GaAs/ZnSe/Ge-КТ/ электронов из алюминиевого контакта должно осущеZnSe/Al в равновесии. Показаны энергетические уровни для ствляться при приложении потенциала, соответствую- подзоны тяжелых (нижний индекс hh) и легких (hl) дырок и щего собственной емкости КТ, т. е. при V = 40-50 мВ. электронов для L- и -долины (со штрихом).

Физика и техника полупроводников, 2005, том 39, вып. Исследование фотоэлектрических свойств квантовых точек Ge в матрице ZnSe на GaAs щение. В то же время при 0.4 мкм изменение тока канала отрицательное с выходом на насыщение. Причем изменение тока канала всегда оставалось отрицательным при изменении интенсивности излучения аргонового лазера ( = 0.46 мкм) от 3 до 100 мВт, т. е. изменение полного тока канала определяется энергией возбуждающего излучения, а не его интенсивностью.

Возможный механизм уменьшения тока канала при освещении и долговременную релаксацию тока после выключения освещения можно проанализировать, рассмотрев зонную диаграмму транзисторной структуры рис. 5. В результате расчета при отсутствии внешнего напряжения и без освещения было получено, что часть Рис. 3. ВАХ: a — поперечный, b — продольный ток встроенного потенциала, приложенного к германию, через структуру, T = 300 K. Поперечное сечение структуры плотность заряда на КТ и плотность электронов на заGaAs/ZnSe/КТ-Ge/ZnSe/p-Ge на вставке: 1 —GaAs, 2 — ZnSe, ряженных КТ составляют соответственно: VGe = 0.033 В, 3 — КТ-Ge; 4 — канал p-Ge; 5 —Al-контакт, 6 —SiO.

KT =-6.1· 10-8 Кл · см-2, NeKT = 3.8 · 1011 см-2.

Поскольку поперечные токи утечки через структуру малы, изменение тока канала может происходить только канала выполняет эпитаксиальный слой тонкого герза счет пространственной локализации электронов и мания, то появляется возможность изучения процесса дырок. Рассмотрим возможные оптические переходы в накопления заряда в структуре с Ge-КТ. В этом случае структуре (рис. 5) начиная с малых энергий фотона. Из накопление даже очень малого заряда должно приводить зонной диаграммы видно, что переходы I типа с уровней к измеряемому изменению тока в канале.

Pages:     || 2 |



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.