WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     | 1 | 2 ||

f = 4/(Et - Ed). (3) Расчеты показали, что наилучшие условия отбора ионов из плазмы и формирования высокоэнергетичных При увеличении падения напряжения на слое для пучков с энергией несколько десятков keV и плотностью сохранения начальной сходимости пучка в соответствии тока несколько mA / cm2 в системах с катодным слоем с (3) необходимо увеличивать напряженность поля в ускоряющем промежутке. Для определения условий фор- обеспечиваются при использовании ионной оптики с большим диаметром апертур (8-10 mm) и относительмирования пучка с минимальной угловой расходимостью на выходе оптики необходимо по аналогии с [10] рассмо- но тонким экранным электродом (1-1.5mm). Такая оптика обеспечивает достаточно эффективное провисатреть действие всей системы электростатических линз, содержащей фокусирующие диафрагмы с отверстием в ние ускоряющего поля в отверстие, в результате чего экранном и замедляющем электродах и рассеивающую эмитирующая плазменная поверхность формируется не диафрагму в ускоряющем электроде. Проведенные в па- в канале отверстия, а за экранным электродом, причем раксиальном приближении без учета пространственного даже при наличии ионного слоя эта поверхность может заряда качественные оценки показали, что увеличение иметь вогнутую форму, обеспечивающую высокую эфполного напряжения в ускоряющем промежутке или фективность извлечения ионов из плазмы и оптимальную уменьшение длины замедляющего зазора приводят к угловую расходимость пучка.

Журнал технической физики, 2000, том 70, вып. Формирование пучка ионов, извлекаемых из плазмы тлеющего разряда Выводы Список литературы В плазменно-эмиссионных структурах на основе тле- [1] Молоковский С.И., Сушков А. Д. Интенсивные электронные и ионные пучки. М.: Энергоатомиздат, 1991. 138 с.

ющего разряда слой положительного пространственного [2] Aston G., Kaufman H.R., Wilbur P.J. // AIAA J. 1978. Vol. 16.

заряда, существующий между эмитирующей ионы плазN 5. P. 516–524.

мой и экранным электродом электростатической ионно[3] Coupland J.R., Green T.S., Hammond D.R., Riviere A.C. // оптической системы, оказывает существенное влияние Rev. Sci. Instrum. 1973. Vol. 44. N 9. P. 1258–1270.

на положение и форму эмитирующей поверхности плаз[4] Aston G., Kaufman H.R. // AIAA Paper 78–669. 1978. P. 1– мы в элементарной ячейке ионной оптики.

15.

Степень влияния слоя зависит от соотношения тол[5] Gavrilov N.V., Mesyats G.A., Radkovskii G.V., Berseщины слоя и диаметра апертуры оптики. При сопостаnev V.V. // Surface and Coating Technology. 1997. Vol. 96.

вимых размерах слоя и апертуры пучок с минимальной N 1. P. 81–88.

расходимостью формируется в условиях, когда ионы эми[6] Метель А.С. // ЖТФ. 1984. Т. 54. Вып. 2. С. 241–247.

тируются плазменной поверхностью с незначительной [7] Gavrilov N.V., Mesyats G.A., Nikulin S.P. et al. // J. Vac. Sci.

кривизной. В этом случае начальная сходимость ионного Techonol. A. 1996. Vol. 14. P. 1050–1055.

пучка обеспечивается фокусировкой ускоренных в слое [8] Гаврилов Н.В., Никулин С.П., Радковский Г.В. // ПТЭ.

ионов в поле диафрагмы с отверстием. Значительная про1996. № 1. С. 93–98.

дольная составляющая скорости ионов на входе в линзу [9] Кельман В.М., Явор С.Я. Электронная оптика. Л.: Наука, затрудняет фокусировку пучка, для усиления которой 1968. 487 с.

необходимо увеличивать напряженность электрического [10] Green T.S. // J. Phys. D. 1976. Vol. 9. P. 1165–1171.

поля в ускоряющем промежутке. Поэтому для таких систем характерны более низкие значения предельно достижимой плотности тока пучка, которая ограничена напряжением вакуумного пробоя ускоряющего промежутка.

Параметры слоя оказывают влияние не только на угловую расходимость пучка, но и на эффективность извлечения ионов из плазмы. Расходимость потока эмитированных плазмой ионов на входе в систему формирования увеличивает потери тока на экранный электрод и уменьшает ток пучка. Влияние слоя возрастает при уменьшении энергии ионов, поэтому плазменноэмиссионные структуры на основе тлеющего разряда, в которых эмитирующая ионы плазма генерируется в катодной полости, не могут быть эффективно использованы для генерации низкоэнергетичных (eU 1keV) пучков с невысокой угловой расходимостью и высокой плотностью тока пучка.

При увеличении энергии ионов относительная толщина слоя уменьшается из-за необходимости увеличения длины ускоряющего промежутка и размера апертур для сохранения условий формирования слаборасходящегося пучка. Использование оптики с большим диаметром апертур (10 mm) и относительно малой толщиной (1-2mm) экранного электрода для формирования пучков ионов с энергией порядка несколько десятков keV и плотностью тока 1-10 mA/cm2 обеспечивает как высокую эффективность извлечения ионов из плазмы, так и оптимальную для достижения однородности угловую расходимость пучка.

Авторы благодарны Ю. А. Коваленко (ВЭИ, Москва) за предоставленную для проведения расчетов программу BEAM–CAD, а также В.В. Берсеневу и С.П. Никулину за участие в проведении экспериментов.

Работа выполнена в рамках NIS–IPP и USIC–IPP программ (контракт № 0248U0016-35 с Лос-Аламосской национальной лабораторией США и контракт № с Брукхейвенской национальной лабораторией).

6 Журнал технической физики, 2000, том 70, вып.

Pages:     | 1 | 2 ||



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.