WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Физика и техника полупроводников, 2007, том 41, вып. 1 Электрофизические свойства облученного протонами ZnSiAs2 © В.Н. Брудный¶, Т.В. Ведерникова Томский государственный университет, 634050 Томск, Россия (Получена 22 марта 2006 г. Принята к печати 7 апреля 2006 г.) Исследованы электрофизические свойства p-ZnSiAs2, облученного протонами (энергия E = 5 МэВ, доза D 2 · 1017 см-2). Из экспериментальных и расчетных данных оценено положение предельного уровня Ферми в облученном материале (середина запрещенной зоны Eg/2). В интервале температур 20-610C проанализирована термическая стабильность радиационных дефектов.

PACS: 61,80.Jh, 73.61.Le Полупроводниковое соединение ZnSiAs2 — „пере- вблизи 300 K, выращенные кристаллизацией расплава крестный“ аналог GaAs и AlAs, ширина запрещенной зо- стехиометрического состава. Образцы для измерений ны которого по данным разных измерений оценивается имели произвольную ориентацию и толщину до 100 мкм на уровне Eg = 1.8-2.1эВ [1], — в настоящее время яв- при расчетном среднем проецированном пробеге протоляется одним из наименее изученных материалов среди нов с энергией E = 5 МэВ около 150 мкм для ZnSiAs2.

арсенидов группы II–IV–V2. Однофазные образцы этого Облучение образцов проводилось на циклотроне ИЯФ соединения получают только в виде кристаллов p-типа Томского политехнического университета (г. Томск) при -8 проводимости с плотностью дырок от 1013 до 1018 см-3.

плотности тока j =(1-5) · 10 А/см2 интегральными При этом изменение условий кристаллизации, легиропотоками протонов от D = 1 · 1012 до 2 · 1017 см-2 и вание расплава различными химическими примесями при температурах около 320 K. После облучения в или последующая диффузия примесей в выращенный зависимости от интегральной дозы протонов образцы материал, а также термообработка материала после выдерживались от нескольких недель до нескольких выращивания в парах входящих в его состав компонент месяцев для спада наведенной радиоактивности и затем приводят к несущественному изменению свойств даннопоступали на измерения.

го полупроводника, сохраняя его p-тип проводимости.

Обнаружено, что бомбардировка протонами привоЭто связывается с высокой дефектностью материала дит к уменьшению плотности свободных дырок от из-за нарушения стехиометрического состава, наличия исходных значений до величин 106 см-3 и к увелиразупорядочения в катионной подрешетке, амфотерного чению удельного сопротивления кристаллов p-ZnSiAsповедения Si, в частности с образованием антиструкдо значений 2 · 1010 Ом · см при 300 K (рис. 1), что турных дефектов типа SiAs. Предполагается, что такие указывает на преимущественную эффективность РД доэлектрически активные дефекты могут сильно влиять на норного типа для исходного материала p-типа проструктурно-чувствительные параметры материала, задаводимости. На рис. 1 также показано изменение вая его p-тип проводимости. Поэтому одна из задач фидля одного из аналогов данного тройного соединезики и химии данного соединения — исследование собния — GaAs при облучении протонами (E = 5МэВ).

ственных дефектов решетки ZnSiAs2 и поиск способов В этом случае в качестве исходного материала управления его электрофизическими характеристиками.

для исследований использованы кристаллы p-GaAs(Zn) Данная работа является продолжением исследований (p = 1 · 1016 см-3). Известно, что в случае GaAs прорадиационных дефектов (РД) в ZnSiAs2 [2] в области тонное облучение формирует полуизолирующий матебольших интегральных потоков протонов. В работе риал с (108-109) Ом · см и предельным положением изучаются закономерности изменения электрофизичеуровня Ферми Flim Ev + 0.6эВ [3]. Принимая значения ских свойств в данном полупроводнике при протонном эффективной массы электронов mn 0.07m0 и дырок облучении и обсуждается проблема закрепления уровня mp 0.5m0 для ZnSiAs2, как и в GaAs, можно оценить Ферми при высокой плотности РД. Такие исследования предельное положение уровня Ферми в ZnSiAs2, доважны для выяснения роли собственных дефектов рестигнутое при протонном облучении: Flim Ev + 0.8эВ шетки при определении свойств выращиваемого материпри температуре T = 300 K. Эту величину можно ала, а также при использовании методов радиационной оценить из дозовых зависимостей энергии активации технологии для управления параметрами данного соедиудельного сопротивления Ea(D), используя выраженения.

ние (D) exp[Ea(D)/kT] для температур вблизи комВ работе исследовались кристаллы p-ZnSiAs2 с плотнатных (рис. 1). Из этих данных следует, что максимальностью свободных дырок p = 9.5 · 1014-1 · 1018 см-3 ная величина составляет Ea(D)max Ev +(0.8-0.9) эВ и удельным сопротивлением = 2.5 · 10-3-1.5Ом· см для ZnSiAs2, облученного протонами.

¶ В области больших интегральных потоков, протоE-mail: brudnyi@mail.tsu.ru нов более (1-5) · 1015 см-2, для ZnSiAs2 отмечено 14 В.Н. Брудный, Т.В. Ведерникова материале. В то же время в области больших потоков протонов соответствующие кривые (D) и Ea(D) для GaAs и ZnSiAs2 качественно подобны, поскольку свойства материала в данном случае целиком определяются радиационными дефектами.

Поскольку величина Flim в облученных полупроводниках „проявляется“ как энергетическое положение уровня зарядовой электронейтральности CNL („нейтральной“ точки) кристалла [4], были проведены расчеты значения CNL для ZnSiAs2. В таблице представлены значения CNL в (Al,Ga)As и в ZnSiAs2, отождествленные с положением уровня локальной электронейтральности Elnl и величиной EG /2. Здесь EG — средний энергетический зазор между нижней зоной проводимости и верхней валентной зоной в пределах первой зоны Бриллюэна кристалла. Значения Elnl и EG /2 вычислялись с использованием спецточек общего вида (10 спецточек в случае GaAs и AlAs [5] и 2 спецточки (1/4, 1/4, 1/4) и (3/4, 1/4, 1/4) в случае ZnSiAs2 [6]). Как и в биРис. 1. Дозовые изменения удельного сопротивления нарных полупроводниках (Al,Ga)As, в тройном соеди(D) (1, 3) и энергии активации сопротивления нении ZnSiAs2 имеется хорошее соответствие между Ea(D) (2, 4) вблизи комнатной температуры для кристаллов экспериментальными величинами Flim для облученных p-ZnSiAs2 (1, 2) и p-GaAs (3, 4), облученных протонами.

образцов и расчетными значениями Elnl и EG /2. Можно E = 5 МэВ, температура облучения 320 K, температура также отметить, что в качестве первого приближения измерения 300 K.

для прогнозной оценки величины Flim в ZnSiAs2 возможно использвоание концепции структурно-химических бинарных и тройных аналогов. Действительно, хотя в тройных полупроводниках за счет понижения симметуменьшение величины (T ) и значений Ea(D) во рии решетки имеет место расщепление вырожденных всей исследованной температурной области, что явв бинарных соединениях локальных уровней дефектов, ляется характерным свойством „переоблученных“ шиих усредненные значения в тройных полупроводниках рокозонных полупроводников (рис. 1, 2). Это явление хорошо исследовано в GaAs, облученном протонами (E = 5МэВ), и связывается с появлением прыжковой проводимости носителей по состояниям РД [3]. В областях больших доз температурные зависимости удельного сопротивления тройного соединения ZnSiAs2 могут быть описаны выражениями вида (T ) exp[E(T )/kT]. Здесь величина Ea(T ) уменьшается с ростом дозы облучения и с уменьшением температуры от Ea(T )max 0.8эВ для D (2-5) · 1015 см-до E(T ) 0.12 эВ при D 2 · 107 см-2 вблизи комнатных температур. С увеличением интегрального потока протонов участок „прыжковой“ проводимости расширяется и в высокотемпературную область.

Можно отметить характерные особенности изменения кривых (T ) и Ea(D), представленные на рис. 1 для кристаллов GaAs и ZnSiAs2. Для более чистого p-GaAs параметры (T ) и Ea(D) достаточно быстро изменяются с ростом интегрального потока протонов, но при том кривые имеют „затянутый“ вид в области своих максимальных значений. В то же время для p-ZnSiAsкривые (T ) и Ea(D) „затянуты“ на начальных этапах Рис. 2. Температурные зависимости удельного сопротивления облучения, что обусловлено высокой степенью дефектp-ZnSiAs2, облученного протонами в дозах D, 1014 см-2: 1 —0, ности и компенсации исходного материала, на что так2 — 1, 3 — 10, 4 — 20, 5 — 100, 6 — 1000, 7 — 2000.

же указывают низкие значения подвижности свободных (5-7) — „переоблученные“ образцы. E = 5 МэВ, температура дырок (10-50) см2/В · с при 300 K в исследованном облучения 320 K, температура измерения 300 K.

Физика и техника полупроводников, 2007, том 41, вып. Электрофизические свойства облученного протонами ZnSiAs2 Значения Flim, Eg, Elnl, EG /2 в соединениях AlAs, GaAs и ZnSiAsПолупроводник Eg Flim (эксперимент) Flim (оценка) Elnl EG /AlAs 2.23 0.96-1.04 0.96-1.04 0.88 1.GaAs 1.51 0.6 0.6 0.63 0.ZnSiAs2 1.8-2.1 0.8-0.9 0.78-0.82 0.75 0.П р и м е ч а н и е. Все энергии приведены в эВ. Отсчет от потолка валентной зоны.

должны находиться в близком соответствии с уровня- пературах до Ta = 350C проводился в вакууме, а ми дефектов в бинарных аналогах. Поскольку поло- для более высоких температур при избыточном давлежение Flim определяется всем набором радиационных нии паров мышьяка. В слабо облученных кристаллах дефектов, с учетом близости значений запрещенных зон (D < (1-5) · 1015 см-2) восстановление электрических в соответствующих бинарных и тройных полупровод- свойств материала протекает в несколько стадий. В обниках можно также ожидать и близких значений Flim разцах, облученных электронами (рис. 3, кривая 5), можв соответствии с приближенным соотношением но выделить основные стадии восстановления вблизи 100-200C и 280-400C. В то же время для слабо обFlim(ZnSiAs2) Flim(GaAlAs)/лученных протонами кристаллов p-ZnSiAs2 имеет место появление стадии „отрицательного“ отжига в области =[Flim(GaAs) +Flim(AlAs)]/2. (1) температур Ta (180-250)C, предположительно связанной с уменьшением плотности РД акцепторного типа Это подтверждается данными таблицы, где экспери(рис. 3, кривые 1 и 2). В „переоблученных“ протонаментальные значения Flim(GaAs) и Flim(AlAs) взяты из ми кристаллах p-ZnSiAs2 (D > (1-5) · 1015 см-2) также работы [4], а оценочные значения Flim(ZnSiAs2) полупоявляется стадия „отрицательного“ отжига в области чены в соответствии с выражением (1). Такая оценка Ta (330-420)C. Однако в данном случае ее появдля ZnSiAs2, несмотря на свою простоту, дает неплохое соответствие между экспериментальной величиной Flim ление обусловлено уменьшением вклада прыжкового механизма проводимости в электропроводность матеи расчетными значениями CNL.

риала вследствие уменьшения плотности РД с ростом Исследована термическая стабильность РД в слотемпературы отжига. Это явление хорошо исследовано ях ZnSiAs2, облученных протонами (рис. 3). Изохрондля „переоблученного“ протонами GaAs [3]. При этом ный отжиг в течение времени t = 10 мин при темв отличие от GaAs, (кривая 6 на рис. 3) для ZnSiAsкривые (Ta) не „повторяют“ кривых (D). Для полного устранения РД в ZnSiAs2 требуются температуры нагрева выше 600C, что близко к соответствующим данным для GaAs с учетом близости температур плавления данных материалов: 1038C для ZnSiAs2 и 1236C для GaAs.

Таким образом, облучение кристаллов p-ZnSiAs2 протонами приводит к увеличению их удельного сопротивления до значений 1010 Ом · см вблизи 300 K, что позволяет в широких пределах изменять электрические свойства этого материала. При этом расчетные и экспериментальные данные показывают, что наблюдаемые изменения электрофизических свойств ZnSiAsвозникают вследствие смещения уровня Ферми в глубь запрещенной зоны кристалла и его закрепления вблизи середины запрещенной зоны (Eg/2), что близко к положению уровня зарядовой нейтральности CNL в данном полупроводнике. Эти данные могут быть использованы при изготовлении полуизолирующих слоев на осноРис. 3. Изохронный отжиг ( t = 10 мин) образцов pве ZnSiAs2 методами радиационной технологии, а также ZnSiAs2, облученных протонами в дозах D, 1014 см-2:

для оптического „просветления“ исходных сильно леги1 —1, 2 — 10, 3 — 100, 4 — 1000. 5 — рованных кристаллов p-ZnSiAs2. При этом термическая образец p-ZnSiAs2, облучение электронами (E = 2МэВ, стабильность таких полуизолирующих слоев может быть D = 1 · 1017 см-2). 6 —образец p = GaAs, облучение протоповышена за счет частичного отжига „переоблученного“ нами (E = 5МэВ, D = 2 · 1017 см-2). 3, 4 — „переоблученные“ образцы. Температура измерения 300 K. протонами материала.

Физика и техника полупроводников, 2007, том 41, вып. 16 В.Н. Брудный, Т.В. Ведерникова Подводя итог проведенным исследования, можно отметить, что наличие собственных точечных дефектов в решетке ZnSiAs2 должно приводить к низкой плотности свободных дырок. Поэтому наблюдаемая высокая плотность свободных дырок в исходных кристаллах данного соединения, возможно, обусловлена его загрязнением химическими примесями, нарушением стехиометрического состава или присутствием в решетке более сложных ростовых дефектов.

Список литературы [1] А.С. Борщевский, А.А. Вайполин, Ю.А. Валов и др.

В кн.: Полупроводники A2B4C5, под ред. Н.А. Горюновой, Ю.А. Валова (Л., Сов. радио, 1974).

[2] V.N. Brudnyi, M.A. Krivov, A.I. Potapov, A. Mamedov, V.D. Prochukhan, Yu.V. Rud. Rad. Eff., 59 (3/4), 211 (1982).

[3] В.Н. Брудный, А.И. Потапов. ФТП, 35 (12), 1423 (2001).

[4] V.N. Brudnyi, S.N. Grinyaev, N.G. Kolin. Physica B: Condens.

Matter, 348 (1–4), 213 (2004).

[5] D.J. Chadi, M.L. Cohen. Phys. Rev., 8 (12), 5747 (1973).

[6] P.J. Lin-Chung. Phys. Status Solidi B, 85 (2), 743 (1978).

Редактор Л.В. Шаронова Electrophysical properties of a proton irradiated ZnSiAsV.N. Brudnyi, T.V. Vedernikova Tomsk State University, 634050 Tomsk, Russia

Abstract

The electrophysical properties of a proton irradiated (E = 5MeV, D 2 · 1017 cm-2) p-ZnSiAs2 are investigated. From the experimental and the numerical (calculated) data the Fermi level boundary position is estimated Eg/2 in the irradiated ZnSiAs2. In the temperature interval from 20C up to 610C the temperature stability of radiation-induced defects has been analyzed.




© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.