WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     || 2 |
Физика и техника полупроводников, 2000, том 34, вып. 10 Рекомбинация автолокализованных экситонов в нанокристаллах кремния, сформированных в оксиде кремния © К.С. Журавлев¶, А.Ю. Кобицкий Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук, 630090 Новосибирск, Россия (Получена 27 марта 2000 г. Принята к печати 18 апреля 2000 г.) Впервые экспериментально изучена кинетика фотолюминесценции и стационарная фотолюминесценция нанокристаллов кремния, сформированных в матрице SiO2 имплантацией ионов кремния, в диапазоне от температуры жидкого гелия до комнатной. Обнаружено резкое увеличение времени затухания и одновременное гашение интенсивности фотолюминесценции при температурах ниже 70 K. Полученные результаты свидетельствуют о том, что фотолюминесценция нанокристаллов кремния обусловлена излучательной рекомбинацией экситонов, автолокализованных на границе нанокристалл кремния – оксид кремния.

1. Введение 2. Образцы и методика эксперимента Обнаружение эффективной фотолюминесценции (ФЛ) Фотолюминесцентный анализ проводился на образцах, пористого кремния в видимой области спектра при предыдущие исследования которых [8] показали образокомнатной температуре [1] стимулировало широкие исвание нанокристаллов кремния размером от 2 до 6 нм.

следования наноструктур кремния, полученных разными Образцы приготавливались следующим образом. Ионы методами, что обусловлено возможностью их применекремния с энергиями 200 и 100 кэВ имплантировались ния в светоизлучающей оптоэлектронике. Наиболее инв оксид кремния толщиной 500 нм, выращенный на тригующую загадку представляет природа видимой ФЛ подложке кристаллического кремния. Доза имплантации наноструктур кремния, которая до сих пор не установлесоставила 1 · 1017 см-2. Затем производился отжиг на. Для объяснения феномена видимой ФЛ предложено в течение 1 c при 1200C и 30 мин при 400C. Для большое количество моделей излучательной рекомбинавозбуждения стационарной ФЛ использовался Ar+-лазер ции [2,3]. Интерпретация люминесцентных результатов (длина волны 488 нм, плотность мощности возбуждения в нанокристаллах кремния, полученных методом имот 0.01 до 1 кВт/см2). Нестационарная ФЛ возбуждаплантации ионов кремния, облегчается тем, что можно лась излучением импульсного азотного лазера (длина рассматривать только те из предложенных моделей, коволны 337 нм, длительность импульса 7 нс, средняя плотторые не связаны с присутствием химических загрязненость мощности возбуждения 0.04 кВт/см2). Интенсивний. Это рекомбинация неравновесных носителей заряда, ность ФЛ регистрировалась с дискретностью по времени расположенных на уровнях размерного квантования в 64 мкс. Спектр ФЛ анализировался спектрометром на нанокристаллах кремния [1], рекомбинация автолокаоснове двойного дифракционного монохроматора, оснализованных (self-trapped) экситонов, образованных на щенного фотоумножителем, работающим в режиме счета димерах Si–Si, расположенных на границе нанокристалла одиночных фотонов. Температура (T ) варьировалась в кремния с оксидом кремния [4,5], или рекомбинация в диапазоне от 4.2 до 300 K.

пограничном районе с оксидом кремния [6]. В работе [4] на основе полуэмпирических расчетов и расчетов из первых принципов было показано, что автолокализован3. Экспериментальные результаты ные экситоны могут быть стабильными в нанокристали их обсуждение лах кремния достаточно малых размеров, в работе [7] исследованы различные пути фотовозбуждения таких На рис. 1 приведен спектр ФЛ нанокристаллов кремэкситонов.

ния при комнатной температуре. Он представляет собой В данной работе экспериментально изучены темпеодиночную широкую полосу (ширина на полувысоте ратурные зависимости времени затухания ФЛ и ин 300 мэВ) с максимумом около 1.5 эВ. На вставке тактенсивности стационарной ФЛ в нанокристаллах кремже показана кривая затухания во времени t интегральной ния, полученных методом имплантации ионов кремния интенсивности ФЛ I при комнатной температуре. Видно, в оксид кремния с последующим термическим отжичто форма кривой затухания носит неэкспоненциальный гом. Совместный анализ этих зависимостей позволяет характер. Время затухания определялось из аппроксисказать, что доминирующим механизмом излучательной мации кривых затухания формулой в виде ”растянутой” рекомбинации в исследованных нанокристаллах кремния экспоненты: I(t) =I0 exp{-(t/ )}, где — время затуявляется рекомбинация автолокализованных экситонов.

хания, а — фактор дисперсии системы. При аппрокси¶ мации и являлись независимыми параметрами, и их Fax: 007 (3832)E-mail: zhur@thermo.isp.nsc.ru значения определялись методом наименьших квадратов.

Рекомбинация автолокализованных экситонов в нанокристаллах кремния... при одновременном увеличении интенсивности ФЛ. Затем при T > 70 K время затухания продолжает слабо уменьшаться, при этом интенсивность ФЛ также слабо уменьшается.

Полученное поведение времени затухания от температуры качественно совпадает с аналогичной зависимостью в пористом кремнии. В работе [9] в рамках модели размерного квантования была рассмотрена рекомбинация экситона с сильным расщеплением синглетного и триплетного состояний, вызванным увеличением электрондырочного обменного взаимодействия в квантовых точках. Аппроксимация температурной зависимости времени затухания в этой модели дает хорошее согласие в области низких температур (< 150 K), однако в области высоких температур (> 150 K) наблюдается расхождение (рис. 2). В этой модели предполагалось, что доминирующим каналом рекомбинации во всем диапазоне температур является излучательная рекомбинация, тогда как безызлучательная рекомбинация не рассматривалась вообще. В работе [10] было показано, что эффективность люминесценции нанокристаллов кремния, полученных методом химического газофазного осаждения, составляет не более 1% при комнатной температуре. Оценка эффективности люминесценции наших образцов также дает Рис. 1. Спектр ФЛ нанокристаллов кремния. На вставке — величину не более нескольких процентов при комнатной кривая затухания интегральной интенсивности ФЛ. T = 300 K.

температуре. При этом из рис. 3 видно, что при понижении температуры интенсивность ФЛ увеличивается не более чем в 1.5 раза. Таким образом, доминирующим каналом рекомбинации в исследованных образцах во всем диапазоне температур является безызлучательная рекомбинация.

Рассмотрим возможные каналы безызлучательной рекомбинации в модели Калькотта [9]. Во-первых, это может быть безызлучательная рекомбинация экситонов с захватом на центры безызлучательной рекомбинации, Рис. 2. Зависимость времени затухания ФЛ нанокристаллов кремния от температуры. Точки — экспериментальные данные.

Линии — расчет в модели Калькотта (точечная) и в модели автолокализованного экситона (штриховая).

На рис. 2 представлена зависимость времени затухания от температуры. На рис. 3 приведена зависимость Рис. 3. Зависимость интегральной интенсивности ФЛ от интегральной интенсивности ФЛ I от температуры. Из температуры. Точки — экспериментальные данные. Линии — рисунков видно, что с увеличением температуры до расчет в модели Калькотта (точечная) и в модели автолокалиT = 70 K время затухания сначала резко уменьшается зованного экситона (штриховая).

Физика и техника полупроводников, 2000, том 34, вып. 1256 К.С. Журавлев, А.Ю. Кобицкий фигурационный параметр, характеризующий смещение атомов Si–Si-связи. Основное (G) и возбужденные (E) состояния являются состояниями, когда экситон делокализован. Захват экситона на Si–Si-связь приводит к тому, что энергетически более выгодным становится состояние, когда атомы смещены из своего равновесного положения. Такое состояние называется автолокализованным экситоном (STE). Между возбужденным состоянием и состоянием автолокализованного экситона есть барьер, величина которого зависит от размера кристалла [4].

Из возбужденного состояния экситон может, преодолев барьер, захватиться либо на Si–Si-связь, либо на какой-нибудь центр безызлучательной рекомбинации.

Рис. 4. Схематичная конфигурационная диаграмма диВ свою очередь автолокализованный экситон может промера Si–Si на границе нанокристалл кремния – аморфная матрица. рекомбинировать либо излучательно (EPL), либо безызлучательно. Возможным механизмом безызлучательной рекомбинации автолокализованного экситона является туннелирование под барьером E в основное состояние либо термическое разрушение экситонов с последующей (рис. 4). В работе [12] было показано, что вероятность безызлучательной рекомбинацией неравновесных носитакой рекомбинации прямо пропорциональна температелей заряда. Во-вторых, это может быть более веротуре. Общее время рекомбинации автолокализованного ятный по сравнению с образованием экситонов процесс экситона (rec) будет определяться выражением захвата горячих носителей на центры безызлучательной рекомбинации. Поскольку первые два процесса оказы-1 -rec = r-1 + nr, (1) вают влияние на время рекомбинации экситона, то их вклад не может быть существенным в области низких где r — время излучательной рекомбинации, а температур, где и без учета этих процессов наблюдается -nr T — время безызлучательной рекомбинации.

хорошее согласие с экспериментом. Для объяснения Если время образования автолокализованного экситона низкой эффективности ФЛ необходимо учесть захват существенно меньше, чем время его рекомбинации, то горячих носителей на центры безызлучательной рекомвремя затухания интенсивности ФЛ будет определятьбинации. В работе [11] было показано, что такой процесс ся только временем рекомбинации автолокализованного действительно может иметь место, и его вероятность экситона. Из рис. 2 видно, что температурная зависисущественно больше, чем вероятность образования экмость времени затухания может быть описана формулой ситонов. Таким образом, эффективность люминесцен(1) так же хорошо, как и в модели Калькотта. Аппрокции будет определяться вероятностью захвата горячих симация экспериментальной температурной зависимости носителей на центры безызлучательной рекомбинации, времени затухания формулой (1) дает времена 2 мс и тогда как затухание люминесценции будет определяться 68 мкс (при T = 300 K) для излучательной и безызлучаболее медленным процессом — рекомбинацией эксительной рекомбинации соответственно.

тонов. Учет безызлучательной рекомбинации позволяет При низких температурах эффективность люминесописать зависимость времени затухания от температуры, ценции будет определяться соотношением между вероятно, как видно из рис. 3, в этой модели не удается ностью захвата экситона с возбужденного состояния на описать температурную зависимость интенсивности ФЛ.

центр безызлучательной рекомбинации и вероятностью Наибольшее несовпадение наблюдается в области низких температур. Таким образом, модель, предложенная Каль- образования автолокализованного экситона. Посколькоттом, не позволяет объяснить одновременно темпера- ку процесс образования автолокализованного экситона является термоактивируемым, где энергией активации турные зависимости времени затухания и интенсивности является высота барьера (рис. 4), то он оказывается ФЛ, а температурная зависимость времени затухания не подавленным, чем и объясняется гашение люминесценможет рассматриваться как однозначное свидетельство в ции при T < 70 K. Определенная из аппроксимации пользу рекомбинации низкоразмерного экситона.

Гораздо лучшее согласие с экспериментом расчет- температурной зависимости интенсивности ФЛ высота барьера составила 5 мэВ. При высоких температурах, ных значений времени затухания и интенсивности ФЛ в зависимости от температуры можно получить, если когда вероятность образовать автолокализованный эксиприменить модель рекомбинации с образование автоло- тон практически не зависит от температуры, уменьшение кализованного экситона, теоретически рассмотренную в интенсивности ФЛ определяется увеличением с темпеработах [4,7]. На рис. 4 приведена схематичная конфи- ратурой вероятности туннелирования под барьером E гурационная диаграмма димера Si–Si на границе нано- с последующей безызлучательной рекомбинацией, что кристалла. Здесь E — потенциальная энергия колебания дает хорошее согласие с экспериментальными результаатомов Si–Si-связи плюс энергия экситона, Q — кон- тами (рис. 3).

Физика и техника полупроводников, 2000, том 34, вып. Рекомбинация автолокализованных экситонов в нанокристаллах кремния... 4. Заключение Recombination of self-trapped excitons in silicon nanocrystals fabricated in silicon Таким образом, в работе изучена температурная заoxide висимость стационарной и нестационарной ФЛ наноK.S. Zhuravlev, A.Yu. Kobitsky кристаллов кремния, полученных методом имплантации ионов кремния в матрицу оксида кремния с последуюInstitute of Semiconductor Physics, щим термическим отжигом. Проведен анализ полученSiberian Branch of Russian Academy of Sciences, ных экспериментальных результатов в рамках моделей 630090 Novosibirsk, Russia рекомбинации низкоразмерных экситонов, локализованных в нанокристаллах кремния, и рекомбинации автоло

Abstract

In the present paper photoluminescence kinetics and кализованных экситонов, образованных на димерах Si–Si, steady-states photoluminescence of silicon nanocrystals formed in расположенных на границе нанокристаллов кремния с SiO2 matrix implanted by silicon ions have been experimentally оксидом кремния. Показано, что достаточно хорошее studied for the first time at within the temperature range from согласие с экспериментом дают расчеты, проведенные liquid helium up to room temperature. A drastic increase of the в рамках модели рекомбинации, учитывающей образоваphotoluminescence decay time with a simultaneous quenching of ние автолокализованных экситонов.

the photoluminescence intensity were observed at the temperature Данная работа была поддержана грантом Российского lower than 70 K. The results obtained is an evidence in favour фонда фундаментальных исследований № 97-02-18409.

that photoluminescence of the silicon nanocrystals occur due to recombination of excitons, self-trapped at the silicon nanocrystals– silicon oxide boundary.

Список литературы [1] L.T. Canham. Appl. Phys. Lett., 57, 1046 (1990).

[2] G. Amato, M. Rosenbauer. Structural and Optical Properties of Porous Silicon Nanostructures, ed. by G. Amato, C. Delerue and H.-J. Bardeleben (Amsterdam, 1997).

[3] A.G. Cullis, L.T. Canham, P.D.J. Calcott. J. Appl. Phys., 82, 909 (1997).

[4] G. Allan, C. Delerue, M. Lannoo. Phys. Rev. Lett., 76, (1996).

[5] K.S. Zhuravlev, A.M. Gilinsky, A.Yu. Kobitsky. Appl. Phys.

Lett., 73, 2962 (1998).

[6] Y. Kanemitsu, S. Okamoto. Mater. Sci. Eng. B, 48, 108 (1997).

[7] M.H. Nayfeh, N. Rigakis, Z. Yamani. Phys. Rev. B, 56, (1997).

[8] G.A. Kachurin, K.S. Zhuravlev, N.A. Pazdnikov, A.F. Leier, I.E. Tyschenko, V.A. Volodin, W. Scorupa, R.A. Yankov. Nucl.

Instrum. Meth. B, 127/128, 583 (1997).

Pages:     || 2 |



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.