WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     || 2 |
Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып. 10 Особенности фотолюминесценции ионов эрбия в структурах с кремниевыми нанокристаллами © Д.М. Жигунов¶, О.А. Шалыгина, С.А. Тетеруков, В.Ю. Тимошенко, П.К. Кашкаров, M. Zacharias Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова (физический факультет).

119992 Москва, Россия Max-Planck-Institut fr Mikrostrukturphysik, 06120 Halle, Germany (Получена 1 февраля 2006 г. Принята к печати 13 февраля 2006 г.) Исследованы фотолюминесцентные свойства легированных эрбием слоев диоксида кремния, содержащих кремниевые нанокристаллы со средними размерами от 1.5 до 4.5 нм. Установлено, что интенсивность и среднее время жизни фотолюминесценции ионов Er3+ зависят от размеров нанокристаллов, интенсивности оптической накачки и температуры. Полученные результаты объясняются как влиянием локального окружения ионов Er3+, так и проявлением процессов безызлучательного девозбуждения ионов вследствие обратной передачи энергии в твердотельную матрицу и оже-процесса.

PACS: 78.55.Ap, 78.67.Bf, 61.72.Tt 1. Введение 2. Образцы и методика эксперимента Кремниевые нанокристаллы (nc-Si), как известно, яв- Многослойные структуры nc-Si/SiO2 были изготовляются эффективными активаторами фотолюминесцен- лены методом реактивного распыления мишени SiO в ции (ФЛ) ионов редкоземельных элементов [1]. Сре- вакууме или при определенном давлении кислорода [7].

ди последних ионы эрбия представляют особый прак- При этом на подложку кристаллического кремния последовательно наносились слои SiO и SiO2. Толщитический интерес, поскольку излучательные переходы 4 4 на слоев SiO варьировались от 2 до 6 нм, толщина I13/2 I15/2 во внутренней 4 f оболочке иона привослоя SiO2 составляла 4 нм. Последующий термический дят к излучению света на длине волны 1.53 мкм, что отжиг при температуре 1100C в атмосфере азота соответствует максимуму пропускания оптоволоконных приводил к формированию кремниевых нанокристаллов линий связи. Кроме того, структуры на основе кремс размерами d от 1.5 до 4.5 нм в оксиде кремния ния, легированного эрбием, являются перспективными (2SiO Si + SiO2), что подтверждается данными элекдля создания светоизлучающих устройств (усилителей тронной микроскопии и рентгеновской дифракции [7,8].

и лазеров), совместимых со стандартной кремниевой Дисперсия размеров нанокристаллов d составляла окотехнологией [2]. С точки зрения получения оптического ло 0.5 нм. После приготовления образцы имплантироваусиления в легированных эрбием структурах значились ионами Er3+ (энергия 300 кэВ, доза 2 · 1015 см-2) с тельную роль играет среднее время жизни 1-го возбупоследующим отжигом возникших радиационных дефекжденного состояния иона Er3+ (или, другими словами, тов при температуре T = 950C в течение 1 ч. По оценсреднее время жизни ФЛ на 1.53 мкм). Известно, что кам, средняя концентрация эрбия в приготовленных обв прозрачных диэлектических матрицах, например, в разцах nc-Si/SiO2 : Er составляла 1020 см-3. В тех же стеклах, эта величина может меняться в пределаx от условиях были приготовлены однородные слои SiO2 : Er, до 10 мc [3].

не содержащие кремниевых нанокристаллов, которые В наших предыдущих работах было проведено деиспользовались для сравнительных экспериментов.

тальное исследование ФЛ свойств легированных эрбием Для возбуждения ФЛ использовалось излучение кваструктур кремниевых нанокристаллов в матрице диоксизинепрерывного лазера на парах меди ( 1 = 2.4эВ, да кремния (nc-Si/SiO2 : Er) [4–6]. Была обнаружена ис 2 = 2.1эВ, 20 нс, E 10 мкДж, 12 кГц). Лаключительно высокая эффективность передачи энергии зерное излучение фокусировалось на образце в пятно от экситонов в nc-Si к расположенным в окружающем диаметром 1.5-3 мм.

оксиде ионам Er3+, что указывает на перспективность Спектры и кинетики ФЛ, полученные с помощью использования структур nc-Si/SiO2 : Er в светоизлучаавтоматизированного спектрометра МДР-12, регистриющей оптоэлектронике. Однако недостаточно изученровались InGaAs-фотодиодом. После измерения спекным остался вопрос о влиянии условий возбуждения тры корректировались на спектральный отклик системы.

на среднее время жизни ФЛ в подобных структурах.

Спектральное разрешение при выполнении эксперименВ настоящей работе исследовано влияние интенсивной тов составляло 4 нм, постоянная времени InGaAs-фотооптической накачки и температуры на среднее время диода — 0.2 мс. Эксперименты проводились в диапазоне жизни и интенсивность ФЛ ионов Er3+ в структурах температур 10–300 K с использованием гелиевого криоnc-Si/SiO2 : Er с различными размерами нанокристаллов.

стата замкнутого цикла DE-204N (Advanced Research ¶ E-mail: zhigunov@vega.phys.msu.ru Systems).

Особенности фотолюминесценции ионов эрбия в структурах с кремниевыми нанокристаллами 3. Экспериментальные результаты и их обсуждение 3.1. Зависимость ФЛ от размеров нанокристаллов Проведенные эксперименты показали, что структуры nc-Si/SiO2 : Er при комнатной температуре обладают интенсивной ФЛ с максимумом около 1.53 мкм. В то же время интенсивность ФЛ образцов SiO2 : Er была на 3-4 порядка ниже. Этот результат находится в согласии с хорошо известным механизмом возбуждения эрбиевой ФЛ посредством передачи энергии от экситонов, генерируемых фотонами накачки в nc-Si [1]. В свою очередь прямое возбуждение Er3+ даже в случае использования резонансной накачки менее эффективно из-за малого сечения поглощения света ионами 10-19 см2 Рис. 2. Кинетика ФЛ структур nc-Si/SiO2 : Er c d, нм: 1 —1.5, 2 — 3, 3 — 4.5 при возбуждении лазерным излучением (по сравнению с величиной эффективного сечения подлительностью 40 мс. T = 300 K.

глощения света ионами при наличии нанокристаллов eff 10-16 см2) [9].

На рис. 1 представлены нормированные спектры ФЛ структур nc-Si/SiO2 : Er с различными размерами d крем- На рис. 2 показаны кинетики ФЛ исследуемых структур и импульс возбуждения квазинепрерывного лазера ниевых нанокристаллов. Видно, что с ростом размеров на парах меди, прерываемого механическим образом.

нанокристаллов происходит уширение спектра ФЛ, в то время как наименьшей шириной спектра ФЛ обладают Спад ФЛ хорошо описывается так называемой „растяобразцы однородного диоксида кремния, легированного нутой“ экспонентой:

эрбием. Как показано в работе [10], уширение спектра IPL(t) =I0 exp -(t/ ), (1) ФЛ можно объяснить дополнительным расщеплением уровней Er3+, вызванным электрическим полем зарядов где — среднее время жизни ФЛ, — параметр изображения, наводимых на границе раздела слоев динеэкспоненциальности.

оксида кремния и кремниевых нанокристаллов. УвелиЗависимость типа (1) обычно наблюдается для неупочение размеров nc-Si приводит к большему контрасту рядоченных твердотельных систем, характеризующихся диэлектрической проницаемости на границе nc-Si/SiO2, дисперсией значений времен рекомбинации, например, а следовательно, к большей величине электрического для аморфного [11] и пористого кремния [12]. В нашем поля, создаваемого зарядами изображения. В результате случае разброс времен жизни ФЛ может быть обусловувеличивается величина расщепления уровней Er3+ и, лен разной удаленностью ионов Er3+ от кремниевых следовательно, ширина спектра ФЛ. Следует отметить, нанокристаллов. При этом ионы, близко расположенные что влияние дополнительных полей резко падает при к nc-Si, будут испытывать более сильное влияние поля, удалении иона от границы nc-Si/SiO2 [10].

обусловленного зарядами изображения, наводимыми на границе раздела nc-Si и SiO2, в результате чего их собственные излучательные времена будут короче, чем у ионов, более удаленных от nc-Si.

Дисперсия значений времен жизни ФЛ будет тем больше, чем больше контраст диэлектрической проницаемости на границе nc-Si/SiO2, что имеет место для структур с большими размерами nc-Si. При этом спад кинетики ФЛ будет характеризоваться меньшим параметром неэкспоненциальности. Одновременно с этим при увеличении d среднее время жизни ФЛ может уменьшаться в связи с возрастанием влияния дополнительных электрических полей на энергетическую структуру уровней Er3+ [10]. Другая возможная причина уменьшения — увеличение эффективности безызлучательного девозбуждения ионов Er3+ при их взаимодействии с нанокристаллами большего размера. Предложенные рассуждения подтверждаются результатами Рис. 1. Нормированные спектры ФЛ структур nc-Si/SiO2 : Er аппроксимации экспериментальных кинетик ФЛ, предс размерами нанокристаллов d, нм: 1 —1.5, 2 —3, 3 —4.5.

Кривая 4 соответствует образцу SiO2 : Er (d = 0). T = 300 K. ставленными на рис. 3. Видно, что наибольшие значения Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып. 1226 Д.М. Жигунов, О.А. Шалыгина, С.А. Тетеруков, В.Ю. Тимошенко, П.К. Кашкаров, M. Zacharias Температурные зависимости среднего времени жизни ФЛ и параметра неэкспоненциальности для структур с различным d представлены на рис. 5. При понижении температуры для всех образцов наблюдался рост времени жизни, что объясняется уменьшением вероятности безызлучательной деактивации ионов, вызванной, например, передачей энергии от Er3+ обратно к нанокристаллам или к локальным центрам. Стоит заметить, что для образцов с размерами nc-Si d = 4.5нм происходило более сильное укорочение времени жизни ФЛ при повышении температуры от 10 до 300 K (в 1.раза), чем для образцов с d = 1.5нм (в 1.2 раза). Это находится в согласии с высказанным ранее предположением о возрастании безызлучательного девозбуждения Er3+ с увеличением размеров nc-Si. Этот факт можно Рис. 3. a, b — зависимость среднего времени жизни (a) и параметра неэкспоненциальности (b) ФЛ ионов Er3+ в структурах nc-Si/SiO2 : Er от размеров нанокристаллов при температурах T, K: 1 — 300, 2 — 10. Tочка d = 0 соответствует образцу SiO2 : Er. Линии проведены для наглядности.

и характерны для однородных слоев SiO2 : Er.

В то же время для структур nc-Si/SiO2 : Er наблюдается укорочение среднего времени жизни ФЛ и уменьшение параметра неэкспоненциальности с увеличением размеров нанокристаллов. Эффект укорочения более заметен при комнатной температуре (зависимость 1), тогда как при T = 10 K (зависимость 2), когда подавлены безызлучательные каналы релаксации энергии, изменение среднего времени жизни возможно только в результате воздействия дополнительных электрических Рис. 4. Спектры ФЛ образца nc-SiO2 : Er c d = 3нм при полей на излучательные переходы в Er3+. Отметим, что температурах T, K: 1 — 10, 2 — 90, 3 — 300. На вставке — увеличение среднего времени жизни для всех исслезависимость интегральной по спектру (кривая 1) и максимальдуемых структур при понижении температуры может ной (кривая 2) интенсивности ФЛ ионов Er3+ от температуры.

быть объяснено уменьшением вклада процессов безызлучательного девозбуждения ионов, что будет подробно рассмотрено далее.

3.2. Температурная зависимость ФЛ На рис. 4 представлены спектры ФЛ образца c d = 3 нм при различных температурах. Видно, что с уменьшением температуры происходит рост интенсивности ФЛ в максимуме и подавление коротковолнового крыла спектра. Полный выход ФЛ, представляющий собой интеграл интенсивности в спектральном диапазоне от 1450 до 1700 нм, увеличивается в 2 раза при уменьшении температуры от 300 до 10 K. Интенсивность ФЛ на 1.53 мкм возрастает при этом в 3 раза (вставка на рис. 4). Данные зависимости от температуры являются характерными для всех образцов и свидетельствуют о Рис. 5. Температурные зависимости среднего времени жизни достаточно хорошей температурной стабильности ФЛ ФЛ ионов Er3+ в структурах nc-Si/SiO2 : Er с различными структур nc-Si/SiO2 : Er по сравнению, например, со размерами нанокристаллов d, нм: 1 — 2.3, 2 — 3, 3 —4.5.

структурами монокристаллического кремния, легиро- На вставке — температурные зависимости параметра неэкспованного эрбием [1,2]. ненциальности. Линии проведены для наглядности.

Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып. Особенности фотолюминесценции ионов эрбия в структурах с кремниевыми нанокристаллами объяснить увеличением вероятности обратной передачи иона передается экситону в нанокристалле с переводом энергии от Er3+ к нанокристаллам вследствие уменьше- последнего на более высокий энергетический уровень ния ширины запрещенной зоны и увеличения плотно- (оже-девозбуждение); 3) кооперативная апконверсия в сти энергетических уровней в nc-Si при увеличении d. системе ионов; 4) передача энергии от Er3+ к лоНезначительное уменьшение при понижении темпе- кальным центрам [9]. Действительно, с увеличением ратуры можно объяснить возбуждением все большего концентрации возбужденных ионов растет вероятность количества ионов, в результате чего разброс времен их девозбуждения любым их указанных способов. Стожизни растет, что приводит к уменьшению параметра ит отметить, что сокращение времени жизни ФЛ при неэкспоненциальности (вставка на рис. 5). увеличении интенсивности накачки наблюдалось также при низких температурах и в образцах с меньшей концентрацией ионов Er3+. Последний факт свидетель3.3. ФЛ при интенсивной оптической накачке ствует, что механизм кооперативной апконверсии не На рис. 6 представлены зависимости интенсивности является определяющим для данного эффекта. Наиболее ФЛ ионов Er3+ (a) и времени жизни (b) от интен- вероятной причиной уменьшения и отклонения от сивности накачки для образцов с d = 1.5нм (кривая 1) линейности зависимости интенсивности ФЛ в условиях сильной оптической накачки является, с нашей точки и d = 4.5нм (кривая 2). Начало укорочения для зрения, оже-девозбуждение. Этот процесс более эффекобоих образцов наблюдается при тех же интенсивностях тивен именно при высоких уровнях возбуждения, когда возбуждения, при которых зависимость интенсивности повышается вероятность повторного рождения экситона ФЛ от накачки становится сублинейной. Понижение в нанокристалле после передачи им энергии к Er3+, в температуры, в свою очередь, приводило к уменьшению интенсивности возбуждающего излучения, соответству- то время пока ион все еще находится в возбужденном состоянии. С другой стороны, оже-процесс начинает ющей началу укорочения времени жизни ФЛ и началу проявляться тем раньше, чем эффективнее происходит сублинейного участка зависимости интенсивности ФЛ возбуждение ионов, что реализуется в образцах с наноот накачки для всех образцов.

Pages:     || 2 |



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.