WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     | 1 |   ...   | 5 | 6 || 8 | 9 |

0.12-0.6 мкм. На основе алмаза изготавливались и фо- кремниевые p-n-структуры; они получили широкое торезисторы [266,267], их фоточувствительность в УФ распространение, так как дешевы и хорошо освоены области (0.2 мкм) была на 6 порядков больше, чем в випромышленностью, однако они требуют сложных сидимой области, а темновой ток был менее 0.1 нА. Диоды стем светофильтров для устранения ИК фоточувстШоттки на основе алмаза имели темновой ток 10 пА и ствительности;

постоянную времени 20 мкс [268]. Спектры фоточувстви- GaP-барьеры Шоттки; из-за непрямозонности GaP они тельности фоторезистора и фотодиода Шоттки на основе чувствительны, кроме УФ области, только к синему и алмазной пленки [268] показаны на рис. 17. Обычно фиолетовому свету и могут использоваться в компалмаз создается методом химического осаждения из лекте с простыми стеклянными светофильтрами для газовой фазы [269]. Для уменьшения деградационных контроля УФ излучения Солнца;

процессов пленки выращиваются в среде, содержащей - барьеры Шоттки и p-n-структуры на основе GaN и азот (10-15%) [270].

AlGaN; за счет большой ширины запрещенной зоны В последние годы появился интерес к аморфным и этих прямозонных полупроводников они являются поликристаллическим полупроводниковым материалам основой современной фотоэлектроники солнечно-слев связи с развитием тонкопленочных полевых транзистопых приборов, так как путем изменения химического ров и солнечных элементов. В то же время эти материасостава твердого раствора AlGaN можно легко сдвилы начинают использоваться для УФ области. Приборы гать длинноволновую границу фоточувствительности на основе a-Si : H имеют низкую стоимость изготовлеприемников практически по всей ближней УФ облания, большую площадь и изготавливаются при низких сти спектра;

температурах. В работе [271] структуры a-Si/a-SiC ис- барьеры Шоттки и p-n-структуры на основе SiC;

пользовались как широкозонное окно к Si-фотоприемниони перспективны для высокотемпературной фотоку; в работе [272] отмечалось, что эти структуры могут электроники, а также для регистрации бактерицидноиспользоваться в качестве фотоприемников ближнего и го излучения Солнца и УФ ламп.

дальнего УФ излучения, причем p-i-n-структуры разКроме того, в настоящее время успешно развиваютмером 5 5см2 имели токовую фоточувствительность ся и могут оказаться перспективными p-n-структуры, SI = 0.28 А/Вт при 0.365 мкм. В работе [273] структу- фоторезисторы и барьеры Шоттки на основе полуры Pd/i-a-Si : H/n+-a-Si : H/Mo(Ni,Cr)/Al2O3 использова- проводников AIIBVI (ZnO, ZnS, ZnSe и др.), а также лись в качестве фотоприемников в области 0.2-0.5мкм.

на основе полимерных пленок, которые в дальнейшем Структуры p-i-n на основе a-Si : H с полупрозрачным могут вызвать переворот в технологии приборов.

слоем Ag имели SI 0.08 А/Вт в области 0.3-0.4мкм, Достигнутые в настоящее время максимальные значепричем при 0.45 мкм фоточувствительность падала ния токовой фоточувствительности соответствуют кванв 2 раза [274]. Приборы на основе a-Si [275], а также товой эффективности 0.7-0.9, что очень близко к Физика и техника полупроводников, 2003, том 37, вып. 1050 Т.В. Бланк, Ю.А. Гольдберг теоретическому пределу. Величины постоянных време- [7] А. Васси. Атмосферный озон (М., Мир, 1968) [Пер.

с англ.: A. Vassy. Atmospheric Ozone, Advances in Geoни фотоприемников, особенно с барьерами Шоттки, physics (N. Y.-L., 1965) v. 1].

также оказались близкими к пределу, определяемому [8] D.J. Karoly. Cancer Forum, 30, 1 (1996).

RC-цепью. В то же время удельная обнаружительная [9] Matthew P. Thekaekara. Appl. Optics, 13, 518 (1974).

способность лучших приборов находится на уровне [10] Д.В. Лазарев, Л.Н. Ляпунова. В сб.: Проблемы практи1013-1015 Гц1/2 · Вт-1 · см, что существенно ниже теоческой фотобиологии (Пущино, 1977) с. 11.

ретического предела ( 1017 Гц1/2 · Вт-1 · см), и для ее [11] Э.Л. Александров, Ю.А. Израэль, И.Л. Кароль, повышения необходимо уменьшать темновой обратный А.Х. Хргиан. Озоновый шит Земли и его изменение ток, что в конечном итоге требует совершенствования (СПб., Гидрометеоиздат, 1992).

исходных материалов.

[12] P. Fraser. Proc. 2nd Menzies Found. Conf. „Health ConРассмотрим направления дальнейших исследований в sequences of Ozone Depletion“(Hobart, Australia, 1996).

области УФ фотоэлектропреобразователей:

[13] R. Stalarski, R. Cicerone. Canadian J. Chem., 52, (1974).

- создание общей теории фотоэлектропреобразования [14] M.J. Molina, F.S. Rowlard. Nature, 249, 810 (1974).

в структурах с потенциальными барьерами на основе [15] D.J. Hofmann, S.J. Oltmans, B.J. Johnson, A. Lathrop, широкозонных полупроводников;

J.M. Harris, M. Vomel. Geophys. Res. Lett., 22, 2493 (1995).

- оптимизация технологии широкозонных полупровод[16] I.E. Galbally. Science, 193, 573 (1976).

никовых материалов (GaN, AlN, SiC, ZnO) с целью [17] Ш. Роун. Озоновый кризис (М., Мир, 1993).

создания бездислокационных материалов и материа[18] J. Austin, D.J. Hofmann, N. Butchart, S.J. Oltmans. Geophys.

лов с подвижностью и временем жизни носителей, Res. Lett., 22, 2489 (1995).

близкими к теоретическому пределу (как это уже [19] D.J. Hofmann. Nature, 383, 129 (1996).

сделано для Si, GaAs, GaP); это позволит повысить [20] J.R. Herman, P.A. Newman, O.D. Lark. Geophys. Res. Lett., обнаружительную способность фотоприемников;

22, 3227 (1995).

- разработка фотоприемников (селективных и полосо- [21] Y. Kondo, Y. Zhao, O. Uchino, T. Nagai, T. Fujimodo et al.

вых) для отдельных актуальных участков УФ об- Geophys. Res. Lett., 22, 3223 (1995).

[22] S. Staehelin, N.R.P. Harris, C. Appenzeller, J. Eberhard. Rev.

ласти спектра — солнечно-слепых фотоприемников, Geophys., 39 (2), 231 (2001).

работающих при повышенных температурах, фото[23] P.B.C. Ren, F. Sigernes, Y. Gjessing. Geophys. Res. Lett., 24, приемников эритемного излучения, фотоприемников 1359 (1997).

канцерогенного излучения, фотоприемников витами[24] C.S. Zeferos, D.S. Balis, A.F. Bais, D. Gillotay, P.C. Simon, нообразующего излучения;

B. Meyer, G. Seotmeyer. Geophys. Res. Lett., 24, - разработка миниатюрных измерительных устройств (1997).

(дозиметров, интенсиметров) на основе этих фото[25] CIAP Monography 5. Impact of climatic change on the электропреобразователей и проведение с их помощью biosphere, p. 1. UV radiation effects. DOT-TST-75-УФ мониторинга на территории России с целью опре(Washington, DC, 1975).

деления влияния УФ излучения на жизнедеятельность [26] World Meteorological Organization (WMO). Scientific человека.

assessment of ozone depletion (Geneva, WMO Global Ozone Research and Monitoring Project, 1994) report 37.

[27] World Meteorological Organization (WMO) and United Авторы благодарны О.В. Константинову за полезную National Environment Program (UNEP). Climate дискуссию.

Change 1995 — The Science of Climate Change, Работа выполнена при поддержке РФФИ (грант № 02- Summery of Policymakers, Working Group 1 (Geneva, IPCC, 1995) p. 56.

02-07014).

[28] Yu.A. Goldberg. Semicond. Sci. Technol., 14 (37), R(1999).

[29] Полупроводниковые фотоэлектрические детекторы Список литературы и фотоприемники. ГОСТ-17772-1988.

[30] Полупроводниковые фотоэлектрические детекторы [1] Фотометрия. Термины и определения. ГОСТ-26148-84, и фотоприемники. Термины и определения. ГОСТприложение 1 (1992).

21934-1983.

[2] L.R. Koller. Ultraviolet Radiation (N. Y., Wiley, 1965).

[31] D.E. Aspnes, A.A. Studna. Phys. Rev. B, 27, 985 (1983).

[3] E.E. Anderson. Fundamentals of Solar Energy Conversion [32] H.R. Philipp, E.A. Taft. Silicon Carbide — a High Tempe(Reading, MA: Addison Wesley, 1983).

[4] И.Е. Гамелина, К.А. Самойлова. Механизм влияния на rature Semiconductor (Oxford, Pergamon Press, 1960).

организм человека и животных крови, облученной [33] D.E. Aspnes, S.M. Kenso, R.A. Logan, R. Bhat. J. Appl.

ультрафиолетовым излучением (Л., Наука, 1986). Phys., 60, 754 (1986).

[5] В.Г. Бокша. Справочник по климатотерапии (Киев, [34] S.G. Sridhara, R.P. Devaty, W.J. Choyke. J. Appl. Phys., 84, Здоровье, 1989). 2963 (1998).

[6] WHO Environmental Hygienic Criterions. Ultraviolet [35] Noriyuki Miyata, Rfzunori Moriki, Osumu Mishima, Radiation (Geneva, International Radiation Protection Masami Fujisawa, Takeo Hattori. Phys. Rev. B, 40, 12 Association and WHO, 1994) p. 160. (1989).

Физика и техника полупроводников, 2003, том 37, вып. Полупроводниковые фотоэлектропреобразователи для ультрафиолетовой области спектра... [36] C.R. Aita, C.J.G. Kubiak, F.Y.H. Shih. J. Appl. Phys., 66, 4360 [65] N.I. Kuznetsov, E.V. Kalinina, V.A. Soloviev, V.A. Dmitriev.

(1989). Proc. Mater. Res. Soc. Symp., 395, 837 (1999).

[37] R. Groth, E. Kauer. Phys. St. Sol., 1 (5), 445 (1961). [66] F. Lavia, F. Roccaforte, V. Raineri, P. Musumeci, L. Cal[38] J.F. Muth, J.H. Lee, I.K. Shmagin, R.M. Kolbas, H.C. Ca- cagno. Technical Digest Th-P-41 Int. Conf. on SiC and Rel.

sey, Jr., B.P. Keller, U.K. Mishra, S.P. DenBaars. Appl. Phys. Mater. (Japan, 2001) p. 641.

Lett., 71, 2572 (1997). [67] Q.Z. Liu, L.S. Yu, F. Deng, S.S. Lau, J.M. Redwing. J. Appl.

[39] J. Baillou, J. Daunay, P. Bugnet, J. Dauray, C. Auzary, R. Po- Phys., 84, 881 (1998).

indessault. J. Phys. Chem. Sol., 41 (3), 295 (1980). [68] L.S. Yu, D. Qiao, L. Jia, S.S. Lau, Y. Qi, K.M. Lau. Appl.

[40] J.W. Tomm, B. Ullrich, X.G. Qiu, Y. Segawa, A. Ohtomo, Phys. Lett., 79, 4536 (2001).

M. Kawasaki, H. Koinuma. J. Appl. Phys., 87, 1844 (2000). [69] O. Shigiltchoff, T. Kimoto, D. Hoodgood, P.P. Devaty, [41] A. Zunger, A. Katzir, A. Halperin. Phys. Rev. B, 13, 5560 W.J. Choyke. Technical Digest We-B-23 Int. Conf. on SiC (1976). and Rel. Mater. (Japan, 2001) p. 291.

[42] O. Ambacher, W. Rieger, P. Ansmann, H. Angerer, [70] Ja-Soon Jang, Tae-Yeon Seong. Appl. Phys. Lett., 76, T.D. Moustakas, M. Stutzman. Sol. St. Commun., 97 (5), 365 (2000).

(1997). [71] Э.Х. Родерик. Контакты металл-полупроводник (М., [43] С. Зи. Физика полупроводниковых приборов (М., Мир, Радио и связь, 1982) [Пер. с англ.: E.H. Rhoderick. Me1984) [Пер. с англ.: S.M. Sze. Physics of Semiconductor tal-Semiconductor Contacts (Oxford, 1978)].

Devices (N. Y., Wiley, 1981)]. [72] Ю.А. Гольдберг, Е.А. Поссе, Б.В. Царенков, М.И. Шульга.

[44] Handbook Series on Semiconductor Parameters, ed. by ФТП, 25, 439 (1991).

M. Levinshtein, S. Rumyantsev and M. Shur (Singapore, [73] Ю.А. Гольдберг, Е.А. Поссе, Б.В. Царенков. ФТП, 9, World Scientific, 1996 [v. 1], 1999 [v. 2]). (1975).

[45] Properties of Advanced Semiconductor Materials, ed. by [74] R.H. Fouler. Phys. Rev., 38, 45 (1931).

M. Levinshtein, S. Rumyantsev and M. Shur (N. Y., John [75] C.L. Anderson, C.R. Crowell, T.W. Kao. Sol. St. Electron., Wiley and Sons, 2001). 18 (8), 705 (1975).

[46] H. Morko, S. Strite, G.B. Gao, M.E. Lin, B. Sverdlov, [76] W.W. Gartner. Phys. Rev., 116, 84 (1959).

M. Burns. J. Appl. Phys., 76, 1363 (1994). [77] S.S. Li, F.A. Lindholm, C.T. Wang. J. Appl. Phys., 43, [47] Lei Wang, M.I. Nathan, T.-H. Lim, M.A. Khan, Q. Chen. (1972).

Appl. Phys. Lett., 68, 1267 (1996). [78] А.А. Гуткин, В.Е. Седов. ФТП, 9, 1761 (1975).

[48] M. Rebien, W. Henrion, M. Bar, C.-H. Fisher. Appl. Phys. [79] J.M. Caywood, C.A. Mead. Appl. Phys. Lett., 15, 14 (1969).

Lett., 80, 3518 (2002). [80] M. Lavange, J.P. Pique, Y. Marfing. Sol. St. Electron., 20 (3), [49] R. Trew, J.B. Yan, P.M. Mock. Proc. IEEE, 79, 598 (1991). 235 (1969).

[50] A.O. Konstantinov, Q. Wahab, N. Nordell, U. Lindefelt. Appl. [81] A.M. Cowley, S.M. Sze. J. Appl. Phys., 36, 3212 (1965).

Phys. Lett., 71, 90 (1997). [82] Б.И. Резников, Г.В. Царенков. ФТП, 25, 1922 (1991).

[51] Technical report. III-VReview, 15 (2), 17 (2002). [83] О.А. Мезрин, С.И. Трошков. ФТП, 22, 176 (1983).

[52] Y.P. Varshni. Physica, 34 (1), 149 (1967). [84] Ю.А. Гольдберг, Т.В. Львова, О.А. Мезрин, С.И. Трошков.

[53] D. Matsuura, T. Kanemitsu, T. Kushida, C.W. White, ФТП, 24, 1835 (1990).

J.D. Budai, A. Meldrum. Appl. Phys. Lett., 77, 2289 (2000). [85] О.В. Константинов, О.А. Мезрин, Г.В. Царенков. ФТП, [54] J.D. Guo, M.S. Feng, R.J. Guo, F.M. Pan, C.Y. Chang. Appl. 22, 129 (1988).

Phys. Lett., 67, 2657 (1995). [86] T.V. Blank, Yu.A. Goldberg, O.V. Konstantinov. Abstract [55] А.Н. Андреев, А.А. Лебедев, М.Г. Растегаева, Ф.М. Сне- 13th Int. Conf. Sol. State Dosimetry (Athens, Greece, 2001).

гов, А.Л. Сыркин, В.Е. Челноков, Л.Н. Шестопалова. [87] Р.Ф. Казаринов, О.В. Константинов. ЖЭТФ, 40, ФТП, 29, 1833 (1995). (1961).

[56] M. Sawada, T. Sawada, Y. Yanagata, K. Imai, H. Kimura, [88] Ю.А. Гольдберг, О.В. Константинов, Е.А. Поссе, Б.В. ЦаM. Yoshino, K. Lizuka, H. Tomozawa. Proc. Second Int. ренков. ФТП, 29, 421 (1995).

Conf. Nitride Semicond. (Tokushino, Japan, 1997) p. 706. [89] Yu.A. Goldberg, O.V. Konstantinov, O.I. Obolensky, T.V. Pe[57] Б.В. Царенков, Ю.А. Гольдберг, Е.А. Поссе. ФТП, 7, 2326 telina (Blank), E.A. Posse. J. Phys.: Condens. Matter., 11, (1973). 455 (1999).

[58] J.R. Waldrop, R.W. Grant, Y.C. Wang, R.F. Davis. J. Appl. [90] Т.В. Бланк, Ю.А. Гольдберг, Е.В. Калинина, О.В. КонPhys., 72, 4757 (1992). стантинов, А.О. Константинов, A. Hallen. Письма ЖТФ, [59] T. Mori, T. Kozawa, T. Ohwaki, Y. Taga, S. Nagai, S. Yama- 27 (18), 43 (2001).

saki, S. Asami, N. Shibata, M. Koike. Appl. Phys. Lett., 69, [91] А. Фаренбрух, Р. Бьюб. Солнечные элементы (М., Энер3537 (1996). гоиздат, 1987).

[60] H. Sheng, S. Muthukumar, N.W. Emanetoglu, Y. Lu. Appl. [92] М.М. Аникин, В.В. Евстропов, Н.В. Попов, В.П. РастегаPhys. Lett., 80, 2132 (2002). ев, А.М. Стрельчук, А.Л. Сыркин. ФТП, 23, 647 (1989).

[61] Р.Г. Веренчикова, В.И. Санкин, Е.И. Радованова. ФТП, 17, [93] М.М. Аникин, В.В. Евстропов, Н.В. Попов, А.М. Стрель1757 (1983). чук, А.Л. Сыркин. ФТП, 23, 1813 (1989).

[62] E.V. Kalinina, N.I. Kuznetsov, A.I. Babanin, A.I. Dmitriev, [94] M. Razeghi, A. Rogalski. J. Appl. Phys., 79, 7433 (1996).

A.V. Shchukarev. Diamond Relat. Mater., 6, 1528 (1997). [95] P.W. Kruse. Optical Infrared Detectors (Berlin, 1977).

[63] С.Ю. Давыдов, А.А. Лебедев, О.В. Посредник, Ю.М. Таи- [96] W. Dingfen, K. Heime. Electron. Lett., 18, 940 (1982).

ров. ФТП, 35, 1437 (2001). [97] W. Dingfen, W. Dening, K. Heime. Sol. St. Electron., 29, [64] Wei-Chin Lai.

Abstract

Int. Conf. on SiC, III-Nitrides Rel. (1987).

Mater. (Stockholm, 1997) p. 12. [98] R.K. Kupka, W.A. Anderson. J. Appl. Phys., 69, 3623 (1991).

Pages:     | 1 |   ...   | 5 | 6 || 8 | 9 |



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.