WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     | 1 ||

носителей вследствие уменьшения рекомбинационных В случае жидкофазной эпитаксии сложнее получить потерь на более качественном интерфейсе. Известно, достаточно тонкие и однородные по толщине эпитакчто анизотропное травление поверхности GaAs обессиальные слои, которые воспроизводили бы микропечивает структурное качество рельефной поверхности, рельеф поверхности подложки. Поэтому был использован один из вариантов метода жидкофазной эпитаксии с принудительным охлаждением в горизонтальном реакторе со сдвиговой кассетой [9]. При этом достаточно совершенными оказываются слои AlxGa1-xAs толщиной в несколько мкм (например, образцы LPE-143, LPE-144 в таблице). Однако микрорельеф рабочего интерфейса сильно сглаживается, что ослабляет положительный эффект микротекстурирования. Дополнительной особенностью технологии структуры p+-AlxGa1-xAs/p+-n+-GaAs этой серии является нанесение вначале слоя p+-AlxGa1-xAs на текстурированную подложку n+-n+-GaAs (n = 2 · 1017 см-3). Эмиттерный слой p+-GaAs образуется уже в результате диффузии Zn в процессе эпитаксии. Лучшие характеристики фотопреобразователей, как видно из таблицы, получены для случая более тонких слоев (образец LPE-145), в которых лучше сохраняется исходный рельеф подложРис. 4. Спектры внешней квантовой эффективности структур, ки. Заметим, что при одинаковых условиях эпитаксии, полученных методом газофазной эпитаксии, с рельефом поверхности подложки: 1 — дендритного типа, 2 — квазирешет- фотопреобразователя на подложках дендритного типа ки, 3 — пористого слоя и 4 — исходной гладкой. все же имеют более высокий коэффициент полезного Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып. 880 И.Н. Арсентьев, А.В. Бобыль, О.Ю. Борковская, Д.А. Винокуров, Н.Л. Дмитрук, А.В. Каримов...

Таким образом, рентгеноструктурные исследования приборных жидкофазных слоев на текстурированных и пористых подложках, а также параметры фотопреобразователей, изготовленных на основе этих слоев, свидетельствуют о перспективности данного технологического направления, Лучшие характеристики фотопреобразователей получены для случая более тонких слоев p+-AlxGa1-xAs и p+-GaAs (образец LPE-145), в которых лучше сохраняется исходный рельеф подложки.

Однако при меньшей длительности жидкофазной эпитаксии (и диффузии акцепторной примеси) параметры слоя AlxGa1-xAs могут не соответствовать требуемым параметрам как по величине x, так и по толщине и степени однородности слоя, т. е. процесс требует дальнейшей оптимизации и по параметрам микрорельефа, и по режиму эпитаксии.

Рис. 5. Прямые ветви темновых вольт-амперных характериНа основании полученных результатов можно сделать стик фотопреобразователей, изготовленных на основе жидкоследующие выводы.

фазных структур на: 2 — гладкой подложке, образец LPE-144, 1 и 3 — микрорельефных подложках типа квазирешетки, 1) Эпитаксиальный рост тонких слоев Alx Ga1-xAs на образцы LPE-143 и LPE-145 соответственно. Штриховая пря„мягкой“ подложке GaAs (пористой, микрорельефной) мая — расчетная характеристика образца на пористой подложпозволяет получить гетеросистемы AlxGa1-xAs/GaAs со ке при плотности дислокаций в слое 103 см-2. Стрелка укаструктурным совершенством, не уступающим случаю зывает на ее смещение по мере оптимизации эпитаксиальной гладких химически полированных подложек. Для улучтехнологии.

шения параметров фотопреобразователей и повышения выхода годных структур необходима оптимизация режимов эпитаксии и диффузии.

действия, в чем можно убедиться, сравнивая параметры 2) По сравнению с жидкофазной эпитаксией более образцов LPE-143 и LPE-147. Заметим также, что для перспективной для технологии фотопреобразователей них оптимальными оказались составы x = 0.74 и 0.с хорошими параметрами является газовая эпитаксия соответственно.

(типа МОС-гидридной), а также диффузия примеси Результаты исследования прямых ветвей темновых из газовой фазы. Однако для удешевления технологии вольт-амперных характеристик (ВАХ) фотопреобразопри массовом производстве фотопреобразователей с вателей, изготовленных на основе жидкофазных струкбольшой облучаемой площадью вполне может быть тур, показаны на рис. 5. Они также указывают на то, использована жидкофазная эпитаксия.

что структуры на микротекстурированных подложках 3) За счет текстурирования активной границы раздела обладают более высоким структурным качеством по гетероперехода (p-n-перехода) снижаются оптические сравнению с таковыми на контрольных гладких подпотери, без заметного увеличения тока насыщения.

ложках. Моделирование ВАХ с помощью аналитических Эффективность преобразования излучения имитатора зависимостей модели [12], учитывающих основные мехасолнечного облучения (АМ0) фотопреобразователем низмы токопрохождения (диффузионный, рекомбинацина основе AlxGa1-xAs/GaAs может быть повышена онный процесс в обедненном слое, туннелирование по на 10-20%.

дислокационным линиям, пронизывающим область объВыражаем благодарность В.П. Улину за изготовление емного заряда, и омическое шунтирование), позволяет выделить структурно-зависимую туннельную компонен- пористых подложек.

ту тока и оценить плотность дислокаций d. Для струкРабота выполнена в рамках проекта Украинского натур с плоской границей раздела, например, LPE-учно-технологического центра U-56(J), при частичном получено d (1-2) · 105 см-2, а для микрорельефных финансировании программой РФ „Научные школы“.

LPE-143, LPE-145 d (1-2) · 104 см-2. В работе [13] было показано, что плотность дислокаций в эпитаксиальных слоях на пористых подложках может быть уменьСписок литературы шена до 102-103 см-2. Исходя из этой возможности и модели [12] на рис. 5 показана расчетная ВАХ для [1] Ж.И. Алфёров, В.М. Андреев, В.Д. Румянцев. ФТП, 38 (8), фотопреобразователя на пористой подложке. При этом 937 (2004).

надо иметь в виду, что выигрыш внешней квантовой [2] V.M. Andreev. In: Photovoltaic and Photoactive Mateэффективности вряд ли будет большим, поскольку, как rials. Properties, Technology and Application, ed. by отмечалось, такие структуры не обладают развитой Y.M. Marshall, D. Dimova-Malinovska (Kluwer Acad. Publ., поверхностью рабочего интерфейса. London, 2002) v. 80, p. 131.

Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып. Фотопреобразователи на основе эпитаксиальных слоев GaAs и AlGaAs на подложках GaAs... [3] Н.Л. Дмитрук, О.Ю. Борковская, И.Б. Мамонтова. Письма ЖТФ, 69 (6), 132 (1999).

[4] N.L. Dmitruk, O.Yu. Borkovskaya, I.N. Kmitruk et al. Sol.

Energy Mater. & Solar Cells, 76, 625 (2003).

[5] Ф.Ю. Солдатенков, В.П. Улин, А.А. Яковенко и др. Письма ЖТФ, 25 (21), 15 (1999).

[6] А.А. Ситникова, А.В. Бобыль, С.Г. Конников и др. ФТП, 39 (5), 552 (2005).

[7] В.В. Мамутин, В.П. Улин, В.В. Третьяков и др. Письма ЖТФ, 25 (1), 3 (1999).

[8] А.К. Боуэн, Б.К. Таннер. Высокоразрешающая рентгеновская дифрактометрия и топография (СПб., Наука, 2002).

[9] A.A. Akopyan, O.Yu. Borkovskaya, N.L. Dmitruk et al.

Photoconventers with AlGaAs/As heterojunction on textured GaAs substrates (Tashkent, Fan Publishers, 2004).

[10] N. Dmitruk, I. Dmitruk, J. Domagala et al. J. Alloys & Comp., 286, 289 (1999).

[11] O.Yu. Borkovskaya, N.L. Dmitruk, V.G. Lyapin et al. Thin Sol.

Films, 451/452, 402 (2004).

[12] В.В. Евстропов, М. Джумаева, Ю.В. Жиляев и др. ФТП, 34 (11), 1357 (2000).

[13] И.Н. Арсентьев, М.В. Байдакова, А.В. Бобыль и др.

Письма ЖТФ, 28 (17), 57 (2002).

Редактор Т.А. Полянская Photoconvertors based on GaAs and AlGaAs epitaxial layers on GaAs substrates with developed surface area I.N. Arsent’ev, A.V. Bobyl’, O.Yu. Borkovskaya, D.A. Vinokurov, N.L. Dmitruk, A.V. Karimov+, V.P. Klad’ko, R.V. Konakova, S.G. Konnikov, I.B. Mamontova Ioffe Physicotechnical Institute, Russian Academy of Sciences, 194021 St. Petersburg, Russia Institute of Semiconductor Physics, National Academy of Sciences of Ukraine, 03028 Kyiv, Ukraine + Physicotechnical Institute of Scientific Center Physics-Sun“, Academy of Sciences of Uzbekistan, ” 700084 Tashkent, Uzbekistan

Abstract

Vapor and liquid phase epitaxion technologies of GaAs and AlGaAs layers on GaAs substrates with the developed surface area have been elaborated. Porous GaAs layers as well as the surface microrelief of dendrite- and quasigrating-like types have been fabricated on GaAs(100) substrates. For quality rating the comparative investigation of the surface morphology and the X-ray structural properties were studied. Then on the basis of this layers were developed photoconverters. The photoconverters fabricated on the dendrite-like layers had the best parameters among investigated samples. Layers of this type had the must developed surface area and the dislocation density of 104 cm-2.

The external quantum efficiency of fabricated photoconverters on 0.65 µm wave-length is higher than 150% in comparison with control devices on substrates with plaine surface.

8 Физика и техника полупроводников, 2006, том 40, вып.

Pages:     | 1 ||



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.