WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     || 2 |
Физика и техника полупроводников, 1997, том 31, № 7 Влияние последовательной имплантации ионов Ag+(Cu+) и Xe+ на рекомбинационные свойства кристаллов CdxHg1-xTe © М.И. Ибрагимова, Н.С. Барышев, В.Ю. Петухов, И.Б. Хайбуллин Казанский физико-технический институт Российской академии наук, 420029 Казань, Россия (Получена 7 августа 1996 г. Принята к печати 25 октября 1996 г.) Исследовано влияние двойной последовательной имплантации ионов Ag+ (Cu+) и Xe+ на рекомбинационные свойства кристаллов CdxHg1-xTe (0.2 < x 0.3). Показано, что после имплантации ионов одного химического элемента с последующим диффузионным термическим отжигом при температурах ниже 150 200 K доминирует рекомбинация через локальные уровни, расположенные на 30 ± 5 мэВ ниже дна зоны проводимости. Последовательная двойная имплантация ионов Ag+ (Cu+) и Xe+ с последующим диффузионным термическим отжигом изменяет ход температурной зависимости времени жизни неравновесных носителей заряда. Установлено, что для кристаллов CdxHg1-xTe с x = 0.200.25 в температурном интервале 700200 K время жизни неравновесных носителей заряда мало ( < 0.15 мкс) и не зависит от температуры.

Для кристаллов CdxHg1-xTe с x 0.3 рекомбинация неравновесных носителей заряда происходит через уровни двух типов: в области температур 140 200 K — через глубокие уровни Et1 Ec - 51 мэВ, а с понижением температуры (77 140 K) — через более мелкие уровни Et2 Ec - (16 ± 2) мэВ.

1. Введение тогда как время жизни неравновесных носителей заряда (при 77 K) уменьшается в несколько раз до 2 порядков [13]. Для того чтобы установить специфику Узкозонное полупроводниковое соединение ионной имплантации и последующего диффузионного CdxHg1-xTe является базовым материалом для изготоотжига в узкозонных полупроводниках представляется вления приемников инфракрасного излучения. С научной интересным исследовать влияние двойной точки зрения значительный интерес представляет последовательной имплантации на электрические и исследование времени жизни неравновесных носителей фотоэлектрические свойства CdxHg1-xTe. В данной заряда в этом материале, поскольку именно этот работе исследованы рекомбинационные свойства параметр опеределяет характеристики фотодетекторов.

кристаллов CdxHg1-xTe (x = 0.2 0.3), в которые К настоящему времени накоплен значительный последовательно имплантировались ионы I группы и экспериментальный материал по изучению процессов ионы Xe+, с последующим диффузионным отжигом рекомбинации и выяснению природы шокли-ридовских после каждого из облучений.

центров, возникающих в основном в кристаллах, подвергнутых специальному легированию (см. [1–5]).

Весьма успешным оказалось применение ионной 2. Эксперимент имплантации для формирования высококачественных p-n-переходов на подложках различного типа В качестве исходного материала были использованы проводимости [6–9]. Более того, в работах [10,11] объемные монокристаллы твердого раствора CdxHg1-xTe показана возможность управления электрическими n-типа проводимости, выращенные различными методапараметрами n-CdxHg1-xTe путем дозированного ми, с содержанием теллурида кадмия x = 0.2 0.3.

внедрения ионов I и III групп, что позволяет получить Имплантация на свежетравленных образцах проводилась объемный материал как n-, так и p-типа проводимости в 2 этапа: вначале внедрялись ионы Cu+ или Ag+ с с заданным уровнем концентрации носителей заряда.

энергией 40 или 30 кэВ сооответственно и дозами, В результате исследования рекомбинационных свойств лежащими в интервале 2.0 · 1014 2.0 · 1015 см-2, а этих кристаллов с x = 0.204 0.3 установлено, затем ионы Xe+ с энергией 30 кэВ и дозой 1.25 · что в тех случаях, когда имеет место инверсия или 2.5 · 1016 см-2. В некоторых контрольных эксперитипа проводимости n p, при температурах ниже ментах имплантация осуществлялась в обратной после150 200 K доминирует рекомбинация через локальные довательности. Во всех экспериментах по имплантации уровни, расположенные на 25 ± 10 мэВ ниже дна для предотвращения сильного нагрева образца плотность зоны проводимости [12]. Возникающие при этом ионного тока j не превышала 0.7 мкА/см2. После рекомбинационные центры связаны, по-видимому, каждого облучения проводился диффузионный термичес образованием вакансионных комплексов типа ский отжиг (ДТО) в запаянных кварцевых ампулах в (VHgVTe). В то же время следует отметить, что насыщенных парах ртути при температуре 573 ± 10 K имплантация ионов инертных газов, в частности Xe+, в течение 10 12 суток. Проведение такого отжига в CdxHg1-xTe с последующим термическим отжигом необходимо для диффузионного перераспределения внене приводит к изменению электрических свойств, дренной примеси по всей толщине образца и отжига Влияние последовательной имплантации ионов Ag+(Cu+) и Xe+ на рекомбинационные свойства... Таблица 1. Параметры образцов при 77 K до и после имплантации Cu+ (Ag+) и Xe+ с последующими ДТО Условия До имплантации После имплантации + ДТО № имплантации x образца тип прово- 1/eRH, |RH|,, ион доза, тип прово- 1/eRH, |RH|,, димости 1015см-3 104см2/В · с мкс 1015см-2 димости 1015см-3 104см2/В · с мкс С1 0.23 n –0.38 5.5 – Ag+ 1.8 p 8.4 0.062 0.0.1 Xe+ 25.0 p 8.5 0.060 0.С2 0.24 n –4.64 6.1 – Xe+ 12.5 n –4.7 6.0 – – Ag+ 1.25 p 2.5 0.013 0.С3 0.3 n –1.23 5.4 – Ag+ 0.62 p 2.1 0.029 0.0.29 Xe+ 25.0 p 2.15 0.029 0.М1 0.25 n –1.49 1.05 – Cu+ 0.94 p 6.86 0.031 0.0.13 Xe+ 12.5 p 6.85 0.035 0.М2 0.208 n –2.1 1.07 – Cu+ 1.9 p 8.8 0.043 0.0.1 Xe+ 12.5 p 8.7 0.043 0.М3 0.3 n –1.23 5.4 – Cu+ 0.25 p 1.2 0.053 0.0.6 Xe+ 25.0 p 1.3 0.053 0.К1 0.24 p 1.15 0.018 7.0 Xe+ 37.4 p 1.1 0.018 0.радиационных дефектов. Измерение электрических и x 0.25 после облучения ионами I группы и последуфотоэлектрических параметров образцов производилось ющего ДТО. Ход температурной зависимости свидепосле каждой операции имплантации с последующим тельствует о том, что после имплантации в CdxHg1-xTe диффузионным отжигом.

ионов I группы в примесной области наблюдается рекомКоэффициент Холла RH и удельное сопротивление бинация через локальные уровни в запрещенной зоне.

(проводимость ) измерялись методом Ван-дер-Пау Расчет по одноуровневой модели Шокли-Рида показал, при 77 и 300 K в магнитных полях 500 и 15 000 Э. Для что рекомбинация в образце М1 осуществляется через определения времени жизни неравновесных носителей уровень Et1 = Ec - 26 мэВ (см. данные табл. 2). На заряда (ННЗ) в интервале температур 77 300 K примере образца K1 (кривая 2) показана температурная использовался метод релаксации фотопроводимости при зависимость времени жизни неравновесных носителей импульсном возбуждении излучением диода на GaAs с заряда для кристаллов CdxHg1-xTe, подвергнутых имдлиной волны = 0.91 мкм.

плантации ионами Xe+ в сочетании с последующим ДТО. При этом (см. [13]) следует отметить, что в исходном кристалле К1 температурный ход удовле3. Результаты и обсуждение творительно объяснялся действием межзонных процесВ табл. 1 представлены данные электрических и фотоэлектрических измерений при 77 K для кристаллов CdxHg1-xTe (x = 0.2 0.3) до имплантации и после каждого этапа имплантации с последующим отжигом. Как видно из таблицы, ионная имплантация CdxHg1-xTe Cu+ (или Ag+) приводит к инверсии типа проводимости n p и увеличению фоточувствительности материала. Бомбардировка кристаллов CdxHg1-xTe только ионами Xe+ (см. данные для образцов К1 и С2) не влияет на электрические параметры, но приводит к сильному уменьшению времени жизни ННЗ.

Проведенные измерения температурных зависимостей времени жизни ННЗ в CdxHg1-xTe после двойной имплантации с последующим диффузионнным отжигом показали, что полученные результаты удобно разделить на Рис. 1. Температурные зависимости времени жизни неравнодве группы в зависимости от состава твердых растворов:

весных носителей заряда для образцов CdxHg1-xTe с x 0.25:

x = 0.20 0.25 и x 0.3. На рис. 1 на примере 1 — образец М1, имплантация ионов Cu+; ; 2 —образец К1, образца M1 (кривая 1) показана типичная температурная имплантация ионов Xe+; 3 — образец М1, имплантация зависимость времени жизни в кристаллах CdxHg1-xTe c последовательно ионов Cu+ и Xe+.

2 Физика и техника полупроводников, 1997, том 31, № 788 М.И. Ибрагимова, Н.С. Барышев, В.Ю. Петухов, И.Б. Хайбуллин Таблица 2. Параметры центров рекомбинации № Ион x Доза, 1015см-3 1/eRH, 1015см-3 Ec - Et1, мэВ p1, 10-6 с n, 10-6 с Ec -Et2, мэВ p2, 10-6 с образца М1 Cu+ 0.25 0.94 6.86 26 2.0 0.М3 Cu+ 0.3 0.25 1.2 28 0.17 0.Xe+ 25.0 1.3 51 0.52 0.26 18 0.С3 Ag+ 0.3 0.62 2.1 35 0.48 0.Xe+ 25.0 2.15 51 1.26 0.21 14 0.К1 Xe+ 0.24 37.4 1.1 30 0.Примечание. n — время жизни неравновесных электронов; p1, p2 — времена жизни неравновесных дырок относительно рекомбинации через уровни Et1, Et2.

сов, тогда как в результате имплантации ионов Xe+ стве примера на рис. 2 пунктирными линиями показаны зависимость (1/T ) приобрела вид, характерный для результаты расчетов для случая Et1 = Ec-51 мэВ. В рекомбинации ННЗ на центрах Шокли-Рида с энергией отличие от кристаллов с малыми значениями x для уровня Et1 = Ec-30 мэВ (см. табл. 2). Кривая 3 на рис. 1 данной группы образцов наблюдается монотонное увеотражает ход температурной зависимости в образцах личение времени жизни ННЗ с ростом температуры.

CdxHg1-xTe, подвергнутых последовательной двойной В предположении двух уровней рекомбинации ННЗ имплантации ионами I группы и Xe+ в сочетании с проведено описание температурной зависимости в последующими ДТО. Как видно из экспериментальных образце CdxHg1-xTe (x = 0.3), подвергнутом двойданных, после использованной нами последовательно- ной последовательности имплантации. Результаты рассти двойной имплантации в CdxHg1-xTe температурный четов, приведенные в табл. 2, показывают, что в области ход (1/T ) невозможно удовлетворительно описать на 140 200 K рекомбинация происходит через глубокий основе одноуровневой модели Шокли-Рида. При этом в уровень Et1 Ec-51 мэВ, а с понижением температуры широком температурном интервале (77 200 K) время (77140 K) преобладает рекомбинация через более мелжизни ННЗ не зависит от температуры и находится на кие уровни Et2 = Ec-18 мэВ и Ec-14 мэВ для образцов, низком уровне. Было установлено также, что последо- первоначально облученных ионами Cu+ (образец М3) и вательность двойного облучения CdxHg1-xTe с x 0.25 Ag+ (образец С3) соответственно.

(ионы I группы, затем ионы Xe+ или наоборот) не влияет Полученные нами результаты по влиянию двойной на величину : для образца М1 (ионы Cu+, затем ионы последовательной имплантации на рекомбинационные Xe+) = 0.13 мкс, для образца С2 (ионы Xe+, затем свойства кристаллов CdxHg1-xTe могут быть объяснены ионы Ag+) = 0.14 мкс при T = 77 200 K. следующим образом. Как следует из данных работы [12], Таким образом, в результате проведенных исследований ионная имплантация кристаллов CdxHg1-xTe в сочетании установлено, что последовательное двойное облучение с длительным ДТО приводит к формированию радиакристаллов CdxHg1-xTe (с x 0.25) ионами I группы ционных дефектов, входящих в состав комплексов, по и Xe+ приводит к образованию мощного канала реком- всей видимости, типа (VHgVTe). При этом установлено, бинации и стабилизации времени жизни ННЗ в области температур, соответствующих примесной проводимости.

На рис. 2 приведены температурные зависимости для двух образцов CdxHg1-xTe (x = 0.3), вначале облученных ионами Cu+ (образец М3, кривая 1) или Ag+ (образец С3, кривая 2), в которые затем имплантировались ионы Xe+ (кривые 3 и 4 соответственно).

Ход температурной зависимости для CdxHg1-xTe, облученного ионами электрически активных примесей I группы, свидетельствует о том, что рекомбинация осуществляется через один локальный уровень в запрещенной зоне, так же как и для образцов с x 0.25. В результате расчетов, представленных в табл. 2, получены значения Et1 = Ec - 28 мэВ и Et1 = Ec - 35 мэВ для Рис. 2. Температурные зависимости времени жизни неравноCdxHg1-xTe, облученного соответственно ионами Cu+ и весных носителей заряда для образцов CdxHg1-xTe с x = 0.3:

Ag+. Последующая имплантация ионов Xe+ в эти образ1 — образец М3, имплантация ионов Cu+; 2 —образец С3, цы приводит к тому, что температурные зависимости имплантация ионов Ag+; 3 — образец М3, имплантация после (1/T ) становится невозможно описать рекомбинацией довательно ионов Cu+ и Xe+; 4 — образец С3, имплантация через один локальный шокли-ридовский центр. В каче- последовательно ионов Ag+ и Xe+.

Физика и техника полупроводников, 1997, том 31, № Влияние последовательной имплантации ионов Ag+(Cu+) и Xe+ на рекомбинационные свойства... что зарядовое состояние таких комплексов зависит от x: The influence of subsequent implantation нейтральное для x 0.3 и положительное (+1) для of Ag+ (Cu+) and Xe+ ions x 0.25. Наблюдаемые нами различия в температурon recombination characteristics ных зависимостях времени жизни ННЗ в кристаллах of CdxHg1-xTe CdxHg1-xTe, подвергнутых последовательной двойной имплантации, в зависимости от x, во всей видимости, свя- M.I. Ibragimova, N.S. Baryshev, V.Yu. Petukhov, заны с характером исходно существовавших комплексов. I.B. Khaibullin Более того, в твердых растворах CdxHg1-xTe с малыми Kazan Physical-Technical Institute, значениями x (x < 0.25) комплексы образуются легче Russian Academy of Sciences, и концентрация их выше, чем в кристаллах с больши420029 Kazan, Russia ми значениями x, при одинаковых дозах имплантации.

Таким образом, можно предположить, что в CdxHg1-xTe

Abstract

In our research the influence of a double subsequent после последовательной двойной имплантации происхоimplantation of Ag+ (Cu+) and Xe+ ions on recombination дит формирование новых комплексов на базе исходно characteristics of CdxHg1-xTe was studied. It has been shown существующих, причем в образцах с x 0.25, т. е. в that after an implantation of ions of one chemical element with кристаллах с более узкой запрещенной зоной (при 77 K consequent diffusional thermal annealing at temperatures lower Eg = 0.197 эВ [14]), плотность их высока и они дают than 150 200 K, there dominated a recombination through основной вклад в рекомбинационные процессы, что и levels 30 ± 5 meV below the conduction band edge. After a subsequent double implantation of Ag+ (Cu+) and Xe+ ions and приводит к стабилизации времени жизни ННЗ с малым annealing, the plot of carrier minority lifetime vs temperature значениям в широком температурном интервале.

changed. It was established that for CdxHg1-xTe with x 0.the minority lifetime was small (< 0.15 µs) and constant in the Список литературы temperature renge 77 200 K. For CdxHg1-xTe with x 0.3 a recombination occured through two tipe levels: at temperatures [1] R.G. Pratt, J. Hewett, P. Capper, C.L. Jones, M.J. Quelch. J.

140 200 K — through a deep levels Et1 Ec - 51 meV and at Appl. Phys., 54, 5152(1983).

lower temperatures 77 140 K — through more shallow levels [2] R.G. Pratt, J. Hewett, P. Capper, C.L. Jones, N. Judd. J. Appl.

Et2 Ec - (16 ± 2) meV.

Pages:     || 2 |



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.