WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!

Pages:     || 2 |
Физика и техника полупроводников, 2003, том 37, вып. 5 Структурные и оптические свойства квантовых точек InAs в матрице AlGaAs © Д.С. Сизов, Ю.Б. Самсоненко, Г.Э. Цырлин, Н.К. Поляков, В.А. Егоров, А.А. Тонких, А.Е. Жуков, С.С. Михрин, А.П. Васильев, Ю.Г. Мусихин, А.Ф. Цацульников, В.М. Устинов, Н.Н. Леденцов Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия (Получена 25 июня 2002 г. Принята к печати 28 июня 2002 г.) Исследовались структурные и оптические свойства квантовых точек InAs в широкозонной матрице Al0.3Ga0.7As. Показано, что глубокая локализация носителей, достигаемая благодаря использованию более широкозонной по сравнению с GaAs матрицы, позволяет получать структуры с высокой температурной стабильностью оптических свойств. Исследованы особенности формирования квантовых точек при различных количествах осажденного InAs. Показано, что при увеличении эффективной толщины InAs, осажденного в Al0.3Ga0.7As, наблюдается монотонный сдвиг максимума излучения вплоть до длины волн 1.18 мкм при комнатной температуре, что позволяет достичь энергии локализации экситона, существенно превышающей аналогичное значение для квантовых точек в матрице GaAs. С целью получения максимальной энергии локализации исследовалось влияние заращивания слоя квантовых точек слоем InGaAs. Показана возможность достижения длины волны излучения 1.3мкм.

1. Введение волны до 1.4 мкм [7]. При этом Ee не превышает 0.55 эВ. Однако использование широкозонной матриИсследования самоорганизующихся квантовых точек цы AlGaAs для КТ позволяет существенно увеличить (КТ) на подложках GaAs обусловлены, в частности, значение E.

перспективой получения высокоэффективных светоизКак было показано в работе [8], осаждение КТ InAs лучающих приборов [1]. Интерес к исследованиям гев Al0.5Ga0.5As происходит в соответствии с механизмом тероструктур с самоорганизующимися КТ в систероста Странского–Крастанова с переходом к островкоме InAs / GaAs вызван возможностью расширения диавому росту при осаждении 2.1 монослоев (ML) InAs.

пазона излучения структур на GaAs до длин волн Это количество осажденного InAs больше, чем для = 1.3-1.5 мкм, что открывает возможность создания случая выращивания на поверхности GaAs, что связалазеров более длинноволнового излучения по сравно с различной кинетикой процессов при осаждении нению с лазерами на основе квантовых ям (КЯ) атомов In на поверхности GaAs и AlGaAs [8]. ЗначеInGaAs / GaAs [2]. В частности, созданы поверхностноние E в таких структурах составляло более 0.6 эВ.

излучающие лазеры [3], а также изготовлены полосковые Температурные зависимости фотолюминесценции (ФЛ) лазеры с длиной волны генерации 1.3 мкм, имеющие ресвидетельствовали о более высокой температурной стакордно низкие значения пороговой плотности тока и ребильности оптических свойств КТ в матрице AlGaAs, по кордно высокие значения внутренней дифференциальной сравнению с КТ в матрице GaAs, обладающими меньшей эффективности [4,5]. При этом важным параметром, энергией локализации экситона. Исследования влияния влияющим на характеристики лазерной генерации, явсостава матрицы AlxGa1-x As на оптические свойства КТ ляется энергетическая глубина локализации носителей показали меньшее падение интенсивности ФЛ с ростом в КТ: чем больше высота локализующего барьера, тем температуры при увеличении ширины запрещенной зониже пороговая плотность тока и выше температурная ны матрицы, что также свидетельствует о значительном стабильность параметров [6].

влиянии глубины локализации экситона на температурРассмотрим величину ную стабильность оптических свойств КТ [9].

В данной работе продробно исследовалось формироQD GaAs E = Ee + Eh = Epl - Epl, вание КТ InAs в матрице Al0.3Ga0.7As. Изучено также влияние количества осажденного InAs на оптические где Ee — разность энергий между дном зоны проводисвойства КТ в матрице Al0.3Ga0.7As. Показано, что мости и положением уровня основного состояния элекзаращивание слоя КТ слоем InGaAs позволяет получить трона в КТ, Eh — разность энергий между положением излучение в диапазоне до 1.3мкм.

уровня основного состояния дырки и потолком валентQD GaAs ной зоны, Epl и Epl — энергии электронно-дырочных переходов при рекомбинации в матрице и КТ 2. Эксперимент соответственно. Данная величина характеризует энергию локализации экситона в КТ относительно нелока- Структуры с КТ были выращены методом молелизованного экситона в матрице. В структурах с КТ кулярно-пучковой эпитаксии. После осаждения буферIn(Ga)As / GaAs удается получить излучение на длине ного слоя GaAs выращивался слой Al0.3Ga0.7As, толСтруктурные и оптические свойства квантовых точек InAs в матрице AlGaAs щиной 0.1 мкм, в середине которого осаждался слой КТ InAs. Для предотвращения утечки носителей на поверхность и в подложку, сопровождающейся безызлучательной рекомбинацией, слой Al0.3Ga0.7As с КТ со стороны подложки и поверхности был ограничен короткопериодными сверхрешетками (5 периодов AlGaAs / GaAs, 20 / 20 ). Все слои, кроме слоя КТ InAs и последующих 5 нм AlGaAs, выращивались при температуре 600C. КТ формировались путем осаждения тонкого слоя InAs при температуре 485C. Эффективная толщина слоя InAs варьировалась от 1.7 до 4.5 ML, при помощи регистрации картины дифракции быстрых электронов in situ наблюдалось формирование наноостровков после осаждения более 2 ML InAs. Скорость роста InAs составляла 0.1 ML в секунду. Далее слой островков InAs заращивался тонким (5нм) слоем Al0.3Ga0.7As при той же температуре, при которой осаждались КТ, чтобы предотвратить испарение InAs при последующем подъеме температуры [10]. В одном образце слой наноостровков InAs заращивался слоем In0.12Ga0.88As для увеличения длины волны излучения и только после этого осаждалось 5 нм Al0.3Ga0.7As. Для сравнения оптических свойств были выращены образцы с КТ InAs в матрице GaAs.

Фотолюминесценция возбуждалась Ar+-лазером ( = 514.5нм) с плотностью мощности возбуждения Pex = 500 Вт / см2 и детектировалась охлаждаемым Рис. 2. Спектры фотолюминесценции (PL) структур, содержаGe-фотодиодом.

щих КТ с различным количеством осажденного InAs в матрице Исследования методом просвечивающей электронной Al0.3Ga0.7As, при 77 (сплошные линии) и 300 K (штриховые).

микроскопии (ПЭМ) осуществлялись на микроскопе PHILIPS EM 420 при ускоряющем напряжении 100 кВ.

метрии. Эффективная толщина осажденного слоя InAs 3. Результаты и обсуждение в данной структуре составляла 2.5 ML. На снимках видны трехмерные наноостровки InAs, а также тонкий На рис. 1 представлены полученные методом ПЭМ двумерный смачивающий слой InAs [11]. По данным изображения структуры с КТ в матрице Al0.3Ga0.7As ПЭМ латеральные размеры наноостровков составляв геометрии поперечного сечения и в планарной геоют 18 нм, а высота 5 нм, что близко к типичным размерам КТ в матрице GaAs [12]. Таким образом, применение в качестве матрицы твердого раствора Al0.3Ga0.7As вместо чистого GaAs принципиально не меняет механизм формирования КТ.

На рис. 2 приведены спектры ФЛ КТ в матрице Al0.3Ga0.7As с различным количеством осажденного InAs при температурах T = 77 и 300 K. Спектр образца с эффективной толщиной InAs 1.7 ML содержит сравнительно узкий пик, уширенный в коротковолновую область. Такая форма спектра свидетельствует о сохранении двумерного слоя InAs, толщина которого ниже критической для формирования КТ. При увеличении толщины InAs до 2.3 ML пик ФЛ существенно уширяется (до 240 мэВ) и сдвигается в длинноволновую сторону.

Значительное увеличение ширины линии свидетельствует о начале образования трехмерных островков [13].

Этот результат согласуется с данными дифракции быРис. 1. Изображения КТ (QD) в матрице Al0.3Ga0.7As, полученные методом просвечивающей электронной микроскопии. стрых электронов, показавшими, что формирование КТ 5 Физика и техника полупроводников, 2003, том 37, вып. 580 Д.С. Сизов, Ю.Б. Самсоненко, Г.Э. Цырлин, Н.К. Поляков, В.А. Егоров, А.А. Тонких, А.Е. Жуков...

взгляд, помимо структурных свойств самих КТ, причина столь большого значения E заключается в большой высоте локализующего барьера Al0.3Ga0.7As.

Температурная зависимость ФЛ образца с КТ, сформированными при осаждении 4 ML InAs в матрице Al0.3Ga0.7As, показана на рис. 4. При низких температурах хорошо разрешаются два пика (P1, P2), энергетическое расстояние между которыми составляет 150 мэВ.

С увеличением температуры относительная интенсивность коротковолнового пика уменьшается. Такая зависимость интенсивности пиков от температуры свидетельствует о том, что они связаны с рекомбинацией в КТ, имеющих различные размеры. Уменьшение интенсивности коротковолнового пика в этом случае обусловлено Рис. 3. Зависимости положения максимума фотолюминисценвыбросом носителей в матрицу и перезахватом в более ции Em от количества осажденного InAs. 1 —КТ в матрице глубокие КТ. Формирование двух типов КТ может быть GaAs, 2 —КТ в матрице Al0.3Ga0.7As.

обусловлено как морфологическими особенностями поверхности Al0.3Ga0.7As [7], так и кинетикой процессов при осаждении в системе InAs / Al0.3Ga0.7As.

в матрице Al0.3Ga0.7As начинается при эффективной толщине InAs 2 ML. Дальнейшее увеличение эффективной толщины слоя InAs приводит к длинноволновому смещению максимума излучения вплоть до 1.18 мкм при температуре 300 K. Помимо пика P2, связанного с основным состоянием, наблюдается коротковолновое плечо P1, которое может быть обусловлено рекомбинацией через КТ меньшего размера или через возбужденные состояния.

На рис. 3 приведены зависимости положения максимумов ФЛ КТ в матрицах Al0.3Ga0.7As и GaAs от толщины осажденного слоя InAs. На рисунке также показано расчетное значение энергии перехода электрон– тяжелая дырка в квантовой яме InAs / Al0.3Ga0.7As толщиной 1ML [14]. С увеличением количества осажденного InAs максимум ФЛ КТ в матрице Al0.3Ga0.7As строго монотонно смещается в длинноволновую сторону. Величина сдвига оказывается более значительной при эффективной толщине слоя InAs 1.7-2.5 ML. Эти толщины соответствуют началу формирования КТ. Когда матрицей является GaAs, положение линии ФЛ КТ зависит от толщины слоя InAs несколько иначе: при толщинах InAs более 2.3 ML положение максимума почти не зависит от количества осажденного InAs. Различие поведения положения максимумов ФЛ КТ в матрицах Al0.3Ga0.7As и GaAs может объясняться различием условий формирования КТ в процессе роста. Мы предполагаем, что в данном случае сказываются различия в кинетике поверхностных процессов при осаждении InAs на поверхностях Al0.3Ga0.7As и GaAs [8], в том числе Рис. 4. Температурная зависимость спектров фотолюминессвязанные с морфологией поверхности Al0.3Ga0.7As.

ценции (PL) структуры с КТ в матрице Al0.3Ga0.7As. ЭфИз-за насыщения смещения линии ФЛ для КТ в матфективная толщина слоя InAs — 4 ML. Спектры (сверху рице GaAs E не превышает 0.42 эВ. В то же время вниз) соответствуют изменению температуры от 20 до 300 K.

значение E для КТ, выращенных в аналогичном реНа вставке — температурные зависимости интегральной инжиме, но в матрице Al0.3Ga0.7As, составляет 0.76 эВ.

тенсивности, ширины пика на половине высоты (FWHM), Данные результаты свидетельствуют о большeй глубине энергии максимума для структур с эффективной толщиной локализации экситона в матрице Al0.3Ga0.7As. На наш InAs 2.3 ML (1) и 4 ML (2).

Физика и техника полупроводников, 2003, том 37, вып. Структурные и оптические свойства квантовых точек InAs в матрице AlGaAs увеличить длину волны излучения КТ [15], до 1.3 мкм, и получить высокоэффективные лазеры этого диапазона.

Увеличение длины волны происходит по ряду причин:

увеличение эффективного размера КТ за счет стимулированного фазового расслоения InGaAs; уменьшение полей упругих напряжений КТ; квантово-механический эффект, связанный с помещением КТ в квантовую яму InGaAs [15]. В случае выращивания таких КТ в матрице Al0.3Ga0.7As нами получено излучение КТ на длине волны = 1.25 мкм при комнатной температуре (рис. 5).

При этом благодаря большой высоте потенциального барьера величина E в таких структурах составляет 0.86 эВ. Таким образом, энергия локализации экситона для КТ в матрице AlGaAs существенно больше, чем аналогичное значение для КТ в матрице GaAs.

Рис. 5. Спектр фотолюминесценции (PL) КТ InAs, зара4. Заключение щенных In0.12Ga0.88As, в матрице Al0.3Ga0.7As при комнатной температуре.

В работе исследованы особенности структурных и оптических свойств КТ в матрице Al0.3Ga0.7As. Формирование КТ в матрице Al0.3Ga0.7As происходит по механизму На вставке рис. 4 представлены температурные заСтранского–Крастанова, как и в матрице GaAs. Однако висимости интегральной интенсивности, энергии пиков критическая толщина перехода к островковому росту Em, а также ширины пика на половине высоты макпри осаждении КТ в матрице Al0.3Ga0.7As оказываетсимума для структур с 2.3 и 4 ML InAs. Зависимости ся несколько больше ( 2ML) аналогичного значения нормированы на значения интегральной интенсивности в матрице GaAs.

при минимальных температурах. Спад интегральной При увеличении средней толщины InAs вплоть до интенсивности ФЛ структуры с 2.3 ML InAs в 3 раза 4 ML наблюдается длинноволновый сдвиг линии ФЛ КТ больше по сравнению со структурой с 4 ML InAs.

в матрице Al0.3Ga0.7As. В то же время при выращивании Температурный спад интегральной интенсивности ФЛ КТ в матрице GaAs длинноволновый сдвиг насыщается обусловлен безызлучательной рекомбинацией носитепри 2.3 ML. Заращивание КТ в матрице Al0.3Ga0.7As лей, термических выброшенных в матрицу. Поскольку слоем InGaAs позволило увеличить длину волны излучесреднее значение энергии локализации экситона в КТ, ния вплоть до 1.25 мкм и получить энергию локализации полученных осаждением 2.3 ML InAs, при низких тем- экситона в КТ, значительно превышающую эту величину пературах меньше, чем в КТ, формирующихся при для КТ в матрице GaAs при одинаковой длине волны осаждении 4 ML InAs, выброс носителей более вероятен излучения.

в первом случае. Это приводит к более существенному Высокая температурная стабильность оптических спаду интенсивности излучения структуры с 2.3 ML свойств КТ в широкозонной матрице Al0.3Ga0.7As создаInAs. Кроме того, температурный выброс носителей ет перспективы для получения светоизлучающих прибоболее вероятен из наименее локализованных состояний ров с улучшенными температурными характеристиками.

КТ, обусловливающих коротковолновую часть спектра.

Работа выполнялась при поддержке INTAS, РФФИ Это объясняет существенное уменьшение ширины лии программы Министерства науки „Физика твердотельнии излучения КТ, полученных при осаждении 2.3 ML ных наноструктур“.

InAs. Температурное смещение максимума ФЛ этой структуры более сильное, чем структуры, сформированСписок литературы ной при осаждении 4 ML InAs, поскольку вызвано не только температуpным уменьшением запрещенной зоны, [1] Y. Arakawa, H. Sakaki. Appl. Phys. Lett., 40, 1982 (1982).

Pages:     || 2 |



© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.