WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

   Добро пожаловать!


Pages:     || 2 |
Физика и техника полупроводников, 2001, том 35, вып. 5 Особенности фотопроводимости тонких эпитаксиальных слоев n-PbTe(Ga) © Б.А. Акимов¶, В.А. Богоявленский, Л.И. Рябова, В.Н. Васильков Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, 119899 Москва, Россия (Получена 20 сентября 2000 г. Принята к печати 3 ноября 2000 г.) Представлены экспериментальные результаты исследования фотопроводимости и кинетических процессов в тонких (0.2–0.3 мкм) эпитаксиальных слоях n-PbTe(Ga), полученных методом ”горячей стенки” на подложках BaF2 111. Фотоэлектрические свойства образцов были исследованы в температурном диапазоне 4.2–300 K в условиях импульсной (GaAs-светодиод) и непрерывной (миниатюрная лампа накаливания) ифракрасной подсветки. Наиболее важной характерной особенностью исследованных пленок является существенное увеличение температурного диапазона фоточувствительности. При плотности светового потока 105-104 Вт/см2 температура, соответствующая появлению фоточувствительности TC, достигала 150 K, что на 40 и 70 K превышает соответствующие значения для более толстых пленок (2–3 мкм) и высокоомных монокристаллов n-PbTe(Ga). Анализ кинетики фотопроводимости показывает, что в тонких слоях удалось реализовать равномерное по объему фотовозбуждение. Оценена величина рекомбинационного барьера для долговременных релаксационных процессов.

Введение тельный анализ фотоэлектрических характеристик пленок различной толщины и соответствующих параметров Легирование теллурида свинца галлием приводит к монокристаллических образцов.

образованию глубоких примесных уровней в энергетическом спектре твердого раствора PbTe(Ga), обеспечиваюОбразцы и методика эксперимента щих пиннинг уровня Ферми внутри запрещенной зоны — на 70 мэВ ниже дна зоны проводимости [1–3]. В области Эпитаксиальные пленки PbTe(Ga) n-типа проводимонизких температур, T < 80 K, концентрация электронов сти были выращены методом ”горячей стенки” на подв PbTe(Ga) близка к собственной, наблюдается высокая ложках BaF2, ориентированных вдоль кристаллографифоточувствительность и задержанная фотопроводимость.

ческого направления 111. Состав исходной шихты Это позволяет считать PbTe(Ga) материалом, перспекдля синтеза соответствовал 90% PbTe и 10% GaTe.

тивным для инфракрасной (ИК) оптоэлектроники, и Температурный режим в камере горячей стенки был использовать его в рабочих элементах лазеров, теплови- задан таким образом, что фиксировалась температура зоров, детекторов и т. д., чувствительных в спектральной ”источника” 740C, в то время как температура подобласти 3–5 мкм [2,4,5]. ложки варьировалась в пределах 180–200C, с целью Большинство публикаций, посвященных фотоэлектри- подобрать условия, соответствующие получению пленок ческим свойствам PbTe(Ga) n-типа проводимости, опи- с наиболее совершенной кристаллической структурой.

Процедура роста продолжалась 4–6 ч, толщина полученсывают поведение монокристаллических образцов [6–9].

ных слоев составляла 0.2 мкм. Структура выращенных Синтез фоточувствительных пленок осложняется отнопленок контролировалась электронной и акустической сительной узостью диапазона концентраций Ga, соотмикроскопией, а также дифракционными методами.

ветствующего диэлектрическому состоянию сплава [10].

Фотоэлектрические свойства пленок n-PbTe(Ga) были Дополнительные затруднения обусловлены негомогенисследованы в температурном диапазоне 4.2–300 K с ным распределением примеси: наличием сегрегации галиспользованием низкотемпературной камеры, полностью лия в объеме образца [11]. Высокоомные пленки экранирующей образцы от фонового излучения. В качеn-PbTe(Ga) были получены и исследованы сравнительстве источников ИК излучения применялись светодиод но недавно. По данным [12,13] в эпитаксиальных слона основе GaAs (длина волны 1 мкм) и миниатюрная ламях n-PbTe(Ga) толщиной 2–3 мкм температура появлепа накаливания. Интенсивность излучения колебалась от ния задержанной фотопроводимости TC повышается до 10-5 Вт/см2 для светодиода до 10-4 Вт/см2 для лампы.

100-110 K и превышает на 30–40 K соответствующие Для приготовления омических контактов к образцам значения для монокристаллических образцов [2,6]. В наприменялся сплав In + Ag(4ат%)+Au(1ат%).

стоящей работе технология ”горячей стенки” была дополнительно оптимизирована с целью получения более Результаты измерений тонких (0.2–0.3 мкм) высокоомных эпитаксиальных слоев n-PbTe(Ga). Это дало возможность провести сравниТемпературные зависимости удельного сопротивления ¶ E-mail: akimov@mig.phys.msu.su (T ) для пленки n-PbTe(Ga) толщиной 0.2 мкм приFax: (095)9328876 ведены на рис. 1. Экспериментальные данные были Особенности фотопроводимости тонких эпитаксиальных слоев n-PbTe(Ga) При T = 100 K отношение d/ill достигает 10, при 77 K — 103, при 50 K — 105. В условиях непрерывной подсветки спектр излучения источников и изменение интенсивности весьма незначительно влияют на форму зависимостей (T ). Это позволяет предположить, что кривые, снятые в условиях подсветки, характеризуют максимальную чувствительность исследованных пленок в ИК области спектра.



На рис. 2 показано изменение проводимости в условиях подсветки по отношению к темновому значению (1/ill - 1/d) в зависимости от обратной температуры для пленок n-PbTe(Ga) разной толщины. Как видно из рисунка, изменение проводимости (1/ill - 1/d) экспоненциально зависит от обратной температуры в достаточно широком диапазоне от T = 50 K (данная величина является общей для монокристаллических образцов n-PbTe(Ga) и пленок) до характерной температуры TC, которая возрастает при уменьшении толщины пленок от 100 до 150 K. Таким образом, для Рис. 1. Температурные зависимости удельного сопротивления тонкой пленки n-PbTe(Ga) наблюдаемая линейная зави(T ) для пленки n-PbTe(Ga) толщиной 0.2 мкм, измеренные симость lg(1/ill - 1/d) от 1/T реализуется в достав темноте (1), в условиях непрерывной ИК подсветки от точно протяженном температурном интервале (см. крисветодиода (2) и от лампы накаливания (3).

вые 2 и 3). С достаточно большой точностью можно считать, что экспоненциальное изменение проводимости пленок обусловлено изменением концентрации неравновесных электронов, определяющейся соотношением n R/, где R — скорость рекомбинации неравновесных носителей заряда, — характерное время рекомбинации. Полагая, что в области достаточно высоких температур, T > 50 K, в каждой точке величина R равна скорости генерации, которая остается постоянной в условиях эксперимента, изменение n можно связать с температурной зависимостью времени рекомбинации exp(W /kT ) и количественно оценить величину рекомбинационного барьера W для неравновесных носителей заряда по формуле (1/ill - 1/d) exp(W/kT ). (1) Определенная таким образом величина W составляет 26.5 мэВ.

Кинетические кривые спада фотопроводимости (t) после воздействия импульсом подсветки от светодиода для пленок n-PbTe(Ga) различной толщины приведены Рис. 2. Температурные зависимости изменения проводимости на рис. 3. Момент времени t = 0 соответствует (1/ill-1/d) пленок n-PbTe(Ga) толщиной 2 мкм при подсветокончанию подсветки. Наблюдаемые качественные разке от лампы накаливания (1) и толщиной 0.2 мкм при подсветке личия между образцами различной толщины достаточот светодиода (2) и от лампы накаливания (3).

но очевидны. Во-первых, проводимость толстой пленки n-PbTe(Ga) релаксирует к равновесному значению значительно быстрее, чем проводимость тонкой. Во-вторых, кинетическая кривая для толстой пленки не спрямляется получены в темноте (кривая 1), а также при непрев координатах lg() - t, в отличие от классической рывной подсветке светодиодом (кривая 2) или лампой экспоненциальной кинетики фотопроводимости для тоннакаливания (кривая 3). Как видно из приведенных кого образца, описывающейся соотношением данных, отношение сопротивления пленки в условиях экранирования от света и при подсветке d/ill суще(t) exp(-t/ )(2) ственно возрастает с понижением температуры образца ниже некоторого характерного значения TC = 150 K, со- практически во всем временном интервале, за исключе ответствующего появлению задержанной проводимости. нием короткого быстрого участка в самом начале.

Физика и техника полупроводников, 2001, том 35, вып. 526 Б.А. Акимов, В.А. Богоявленский, Л.И. Рябова, В.Н. Васильков релаксации быстро (за t < 10 мс) достигает значения 13 мс и затем остается практически неизменным.

Кривая (t) для толстой пленки характеризуется постоянным ростом в течение всего релаксационного процесса; асимптотический предел этой зависимости, возможно, соответствует тому же самому значению = 13 мс, как и в случае тонкой пленки.

Обсуждение результатов Как установлено в ходе предыдущих экспериментальных исследований [6,7,12,13], кинетика фотопроводимости в n-PbTe(Ga) достаточно сложна. В первом приближении ее можно качественно представить в виде суперпозиции быстрого и медленного процессов. При этом амплитуды быстрой и медленной релаксации зависят не только от интенсивности и длительности предшествуюРис. 3. Кинетические кривые спада фотопроводимости щего светового возбуждения, но и от порядка проведения (t)/ для пленок n-PbTe(Ga) толщиной 2 (1) и 0.2 мкм(2), эксперимента, т. е. от режима нагрева–охлаждения. В пополученные после воздействия импульсом излучения светодилупроводниках, легированных примесями с переменной ода продолжительностью 10 мс. T = 4.2K.

валентностью, скорости рекомбинации одновременно зависят от концентраций неравновесных носителей заряда и примесных центров в определенном зарядовом состоянии [7,13]. Поэтому неравномерное распределение неравновесных носителей в объеме в сочетании с неоднородным распределением примесных центров в разных зарядовых состояниях может приводить к неэквивалентным условиям для рекомбинации разных групп носителей, существенной модификации кинетических процессов, отражающейся в неэкспоненциальном характере наблюдающихся релаксационных кривых. В объемных образцах диффузия неравновесных носителей от поверхности в глубь кристалла может рассматриваться как фактор, реально влияющий на вид релаксационных кривых. При анализе релаксационных процессов следует учитывать, что в n-PbTe(Ga) медленные процессы доминируют в условиях высокого уровня возбуждения, а сравнительно быстрая релаксация наблюдается при слабой импульсной подсветке. Как отмечается в [13], это обстоятельство может быть обусловлено тем, что при высоких значениях концентраций неравновесных Рис. 4. Изменение мгновенного времени релаксации неравно- электронов количество метастабильных примесных ценвесных носителей заряда (t), рассчитанное с использованием тров, отвечающих процессу одноэлектронного захвата, соотношения (3), в течение релаксационного процесса (см.

мало по сравнению с количеством примесных центров в рис. 3) пленок n-PbTe(Ga) толщиной 2 (1) и 0.2 мкм (2).

основном состоянии (двухэлектронный захват). Диффузия неравновесных электронов в глубь кристалла дает дополнительную возможность электронам ”найти” метастабильный центр и рекомбинировать. По-видимому, Для количественного сравнения кинетических харакпроцесс диффузии существен не только в объемных теристик фотопроводимости пленок различной толщины монокристаллах, но и в пленках толщиной 2–3 мкм.

были рассчитаны мгновенные времена релаксации С этим может быть связано меньшие значения (t) для пленок большей толщины (см. рис. 4). Можно полагать, (t) =/(-/t). (3) что, поскольку экспоненциальные переходные процессы Полученные результаты представлены на рис. 4: кри- наблюдаются лишь в наиболее тонких пленках, условия вые 1 и 2 построены для толстой и тонкой пленок однородного по объему возбуждения реализуются только соответственно. Для тонкого образца мгновенное время в данных образцах. Таким образом, полученные в настояФизика и техника полупроводников, 2001, том 35, вып. Особенности фотопроводимости тонких эпитаксиальных слоев n-PbTe(Ga) щей работе экспериментальные результаты показывают, [7] Б.А. Акимов, А.В. Албул, Л.И. Рябова. ФТП, 29, (1995).

что в тонких пленках фактор, связанный с диффузией и [8] А.И. Белогорохов, И.И. Иванчик, С.В. Пономарев, неравномерным распределением неравновесных носитеЕ.И. Слынько, Д.Р. Хохлов. Письма ЖЭТФ, 63, 342 (1996).

лей в объеме, устранен.

[9] А.И. Белогорохов, И.И. Иванчик, З. Попович, Н. Ромчевич, Эффект задержанной фотопроводимости, имеющий Д.Р. Хохлов. ФТП, 32, 679 (1998).

место при температурах ниже TC, является доминиру[10] С.А. Белоконь, Л.Н. Верещагина, И.И. Иванчик, Л.И. Ряющим вплоть до температур 50 K. Барьер W, опредебова, Д.Р. Хохлов. ФТП, 26, 264 (1992).

ленный в области температур 50 K < T < TC, характе[11] B.A. Akimov, A.M. Gaskov, V.N. Glonty, I.I. Ivanchik, F.N. Puризует медленный релаксационный процесс в условиях tilin. Phys. St. Sol. (a), 142, 85 (1994).

сильной подсветки. При этом следует отметить, что [12] B.A. Akimov, V.A. Bogoyavlenskiy, L.I. Ryabova, V.N. Vasil’kov. Proc. SPIE, 3890, 212 (1999).

от толщины образца зависит только величина TC, а [13] B.A. Akimov, V.A. Bogoyavlenskiy, L.I. Ryabova, V.N. Vaтемпература, при которой наблюдается насыщение на sil’kov, S.P. Zimin. Semicond. Sci. Technol., 14, 679 (1999).

кривых (T ), измеренных в условиях подсветки, для [14] B.A. Akimov, V.A. Bogoyavlenskiy, L.I. Ryabova, V.N. Vaвсех исследованных образцов остается приблизительно sil’kov. Phys. Rev. B, 61, 16 045 (2000).

постоянной. В области T < 50 K накопление неравновесРедактор Л.В. Шаронова ных носителей заряда прекращается, хотя время медленной релаксации должно продолжать экспоненциально нарастать. Об этом, в частности, свидетельствует то, что Photoconductivity peculiarities после выключения постоянной сильной подсветки при in thin epitaxial layers of n-PbTe(Ga) гелиевых температурах наблюдается полная задержанB.A. Akimov, V.A. Bogoyavlenskiy, L.I. Ryabova, ная фотопроводимость. Для оценки характерного вреV.N. Vasil’kov мени релаксации медленного процесса при T = 50 K было использовано соотношение = 0 exp(W/kT ), где M.V. Lomonosov Moscow State University, 0 полагалось 10-8 с (характерное время межзонной 119899 Moscow, Russia рекомбинации в нелегированном PbTe). Полученное значение (T = 50 K) 10 мкс с большой точностью

Abstract

Pages:     || 2 |





© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»

Материалы этого сайта размещены для ознакомления, все права принадлежат их авторам.
Если Вы не согласны с тем, что Ваш материал размещён на этом сайте, пожалуйста, напишите нам, мы в течении 1-2 рабочих дней удалим его.