WWW.DISSERS.RU

БЕСПЛАТНАЯ ЭЛЕКТРОННАЯ БИБЛИОТЕКА

загрузка...
   Добро пожаловать!

Pages:     || 2 |
МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ им. М.В.ЛОМОНОСОВА Физический факультет

На правах рукописи

УДК 535. 31 Рыжикова Юлия Владимировна ЧИСЛЕННОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ФОРМИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ В ПРОЕКЦИОННОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ Специальность: 01.04.03 – радиофизика

АВТОРЕФЕРАТ

диссертации на соискание учёной степени кандидата физико-математических наук

Москва – 2008

Работа выполнена на кафедре физики колебаний физического факультета Московского государственного университета им. М.В. Ломоносова

Научный консультант: кандидат физико-математических наук, доцент Г. В. Белокопытов

Официальные оппоненты: доктор физико-математических наук, доцент А. И. Федосеев кандидат физико-математических наук, с. н. с. В. А. Злобин

Ведущая организация: Физико-технологический институт РАН

Защита состоится «20» ноября 2008 года в 16 часов на заседании диссертационного совета Д 501.001.67 в Московском государственном университете им. М.В. Ломоносова по адресу:

119992, ГСП-2, г. Москва, Воробьевы горы, МГУ им. М.В. Ломоносова, физический факультет, аудитория им. Р. В. Хохлова

С диссертацией можно ознакомиться в библиотеке физического факультета МГУ имени М.В.

Ломоносова

Автореферат разослан «» _октября_2008 года Учёный секретарь диссертационного совета Д 501.001.67 А.Ф. Королёв 2

Общая характеристика работы

Актуальность темы исследования Задача о формировании изображения в оптической системе в настоящее время является актуальной в связи с развитием микроэлектронной технологии, где для получения структуры интегральных полупроводниковых микросхем широко используется оптическая литография (фотолитография). Литографический процесс определяет минимальный (критический) размер элементов на полупроводниковом кристалле и степень интеграции микросхемы, а значит её размеры и быстродействие при эксплуатации. В серийном производстве интегральных схем в основном используется проекционная фотолитография.

Моделирование фотолитографических процессов широко используется для оптимизации процессов в полупроводниковом производстве, а также с целью изучения новых методик получения высокого разрешения, поиска наилучших конфигураций фазосдвигающих масок при заданных фиксированных параметрах (длине волны, числовой апертуре NA, степени когерентности ). С помощью численного моделирования процесса формирования изображения в фотолитографии можно осуществлять оптимальный выбор режима работы, то есть такого режима освещения, параметров оптической системы и типов фотошаблонов (бинарных, фазовых, фазово-растровых), которые обеспечат наилучшее качество изображения.

Применение фазовых масок позволяет улучшить характеристики изображения, такие как оптический контраст и пространственное разрешение. Несколько лет назад были предложены фазово-растровые маски (ФРМ)1. Они позволяют получить любое физически допустимое распределение эффективного коэффициента пропускания от координат. Можно ожидать, что такие маски позволят обеспечить высокий контраст (не хуже, чем двухфазные маски со сдвигом фазы на ) и в то же время обеспечат снятие проблемы конфликта фаз.

Современная фотолитография обеспечивает воспроизведение изображений, критические размеры которых существенно меньше длины волны источника освещения.

Это возможно благодаря созданию современных проекционных систем, практически не имеющих аберраций и изготовлению масок-фотошаблонов, в которых скомпенсированы дифракционные искажения.

Aleshin S.V., Belokopitov G.V., Scepanovic R. Mask having an arbitrary complex transmission function. // US Patent No.: 6,197,456 B1. Cl. 430/5. Mar.6. 2001.

Изготовление масок является прецизионным и весьма трудоемким процессом, вклад которого в стоимость изделий интегральной электроники весьма высок. Ввиду этого, большой интерес вызывают возможности оптической литографии без использования масок, где роль динамического фотошаблона играет перестраиваемый пространственный модулятор света. В литографии без маски исходный объект, образ которого получается в плоскости изображения, формируется в результате отражения плоской монохроматической волны от пространственного модулятора света, в частности представляющего собой регулярную систему электрически управляемых микрозеркал. Такая зеркальная структура по существу представляет собой дифракционную решетку, составленную из дискретных элементов.

Прикладывая электрическое поле к системе электродов зеркал, можно менять их ориентацию и тем самым управлять отражением света от некоторой площадки.

В данной диссертационной работе с помощью численного моделирования исследовано формирование «воздушного» изображения (т.е. сформированного на поверхности светочувствительного слоя – фоторезиста) для различных типов фотошаблонов (бинарных, фазовых, фазово-растровых) и их аналога, пространственного модулятора света, составленного из поворотных микрозеркал при изменении параметров проекционной системы и источника освещения в скалярном приближении теории дифракции.

Цели диссертационной работы Цели диссертационной работы состояли в исследовании формирования изображения в проекционной оптической литографии в рамках скалярной теории дифракции с учетом частичной когерентности источника света и дифракционной ограниченности оптической системы с помощью численного моделирования.

В диссертационной работе были поставлены следующие задачи:

1. Реализовать модель формирования оптического изображения в проекционной фотолитографии в виде пакета исследовательских программ.

2. Исследовать изображения тестовых объектов, даваемые различными типами масок (бинарными, фазовыми и фазово-растровыми), а также проанализировать зависимости критических размеров от численной апертуры и параметра когерентности для бинарных и фазовых масок.

3. Разработать алгоритм синтеза фазово-растровых масок (ФРМ), которые являются развитием фазовых масок и основаны на дискретизации функции пропускания и разложении отсчётов на три фазовые составляющие.

4. Провести исследование задачи о нахождении распределения поля волны, отраженной от поворотных зеркал при когерентном и частично-когерентном освещении.

Научная новизна работы 1. Впервые произведено численное моделирование формирования изображений, даваемых фазово-растровыми масками (ФРМ). Разработан алгоритм синтеза фазоворастровых масок, позволяющих получить произвольное распределение комплексной функции пропускания маски. В качестве исходного приближения для построения ФРМ предложено использовать свойство локальности – в пределе малых размеров отверстий отсчет функции пропускания в данной точке маски определяется положением ближайшего отверстия в растре.

2. Разработан алгоритм расчета оптических изображений в литографической системе с пространственным модулятором света (ПМС). В основу алгоритма положено спектральное представление скалярной волновой функции, описывающей распределение поля волны отраженной от поворотного микрозеркала.

3. Получена простая аналитическая формула для спектра пространственных гармоник дифрагированного поля в случае, когда граница объекта (на маске или ее аналоге) задается в виде произвольного многоугольника. Формула пригодна как для бинарных, так и для фазовых и фазово-растровых масок, а так же для масок с линейной зависимостью фазы от пространственных координат, что имеет место при формировании изображения системы поворотных микрозеркал.

Научная и практическая значимость работы 1. Разработан пакет исследовательских программ в среде MATLAB для моделирования формирования изображения в проекционной оптической литографии, который может использоваться как для выбора оптимальных характеристик фотолитографической установки, так и для исследования новых методик получения высокого разрешения. Особенностью разработанного программного пакета является использование спектрального подхода к расчету распределения интенсивности света при частичнокогерентном освещении, в основу которого положена полученная формула для спектра пространственных гармоник дифрагированного поля в случае, когда граница объекта (на маске или ее аналоге) задается в виде произвольного многоугольника.

2. Рассмотрен подход к синтезу фазово-растровых масок для оптической литографии, основанный на дискретизации изображения и разложении отсчетов на три фазовые составляющие, заданные на специальном растре, который может быть использован для многих приложений оптической обработки информации, в частности, в голографии.

Основные положения, выносимые на защиту 1. Математическая модель формирования изображения в проекционной фотолитографии с бинарными, фазовыми и фазово-растровыми масками, а также их аналога перестраиваемого пространственного модулятора света, представляющего собой регулярную систему электрически управляемых микрозеркал, в основу которой положены аналитические соотношения скалярной теории дифракции с учетом частичной когерентности источника света и дифракционной ограниченности оптической системы, адаптированная к эффективной численной реализации.

2. Разработанные алгоритм и программы расчёта оптического изображения в проекционной фотолитографии с масками (бинарными, фазовыми и фазово-растровыми) или их динамическим аналогом пространственным модулятором света.

3. Разработанная методика оценки критических размеров элементов изображения путём численного моделирования и результаты исследования изображений тестовых объектов, даваемые различными типами масок (бинарными, фазовыми и фазоворастровыми).

4. Разработанные алгоритм и программа синтеза фазово-растровых масок, позволяющих получить маски с произвольно заданными функциями пропускания.

Достоверность полученных результатов подтверждается: физической обоснованностью используемых моделей, многократной проверкой программ тестовыми задачами, а также соответствием полученных результатов известным литературным данным.

Апробация работы Результаты работы докладывались на следующих Всероссийских и Международных конференциях:

- Молодежная научная конференция «Физика и прогресс», Санкт-Петербург, 2005 г.

- 13-я международная конференция студентов, аспирантов и молодых учёных по фундаментальным наукам «Ломоносов – 2006», Москва, 2006 г.

- 8-я международная конференция «Опто-, наноэлектроника, нанотехнологии и микросистемы», Ульяновск, 2006 г.

- 7-я международная конференция «Прикладная оптика», Санкт-Петербург, 2006 г.

- 10-я и 11-я Всероссийская школа-семинар «Волновые явления в неоднородных средах», Звенигород, 2006 и 2008 гг.

- 11-я Всероссийская школа-семинар «Физика и применение микроволн», Звенигород, 2007 г.

Кроме того, результаты исследований докладывались и обсуждались на научных семинарах кафедры физики колебаний физического факультета МГУ. По материалам диссертации опубликованы работы, приведённые ниже.

Структура и объем диссертации Диссертация состоит из введения, пяти глав, заключения и списка использованной литературы. Общий объем работы составляет 135 страниц. Диссертация включает рисунков и 10 таблиц. Библиография содержит 97 наименований, в том числе 11 авторских публикаций.

Содержание работы Во введении содержится обоснование актуальности темы исследований, излагаются цели диссертационной работы, приводится краткое содержание работы, отмечается научная новизна и практическая значимость проведённых исследований, сформулированы основные положения, выносимые на защиту, а также приводятся сведения об апробации результатов работы.

В первой главе диссертационной работы проводится анализ литературы, посвященной физическим основам технологии оптической проекционной фотолитографии с использованием масок (фотошаблонов) и их динамических перестраиваемых аналогов.

Выявляются основные проблемы проекционной фотолитографии и анализируются различные альтернативные системы литографии без масок, а также приводится обобщенная схема проекционной оптической литографии. Анализ литературы показал, что оптическая литография без маски имеет ряд потенциальных достоинств. В частности, за счет дискретного задания дифракционной решетки из микрозеркал и поэлементного сканирования изображения в литографии с пространственным модулятором света (ПМС), составленного из поворотных микрозеркал можно достичь больших уменьшений изображения ( M = 200 - 267 ). Вместе с тем, оптимистические перспективы, которые открывает литография без масок, нуждаются в дальнейшей глубокой теоретической проработке и численном моделировании.

Вторая глава посвящена теоретическому исследованию прямой задачи о формировании изображения в проекционной фотолитографии, которая состоит в отыскании распределения интенсивности света I(xi, yi ) в плоскости изображения по известной функции пропускания фотошаблона (маски) F(xo, yo), при заданных условиях освещения и параметрах проекционной системы. В настоящей главе был использован спектральный подход к расчету интенсивности света в рамках скалярной теории дифракции:

+ I(xi, yi ) = SB(, ) |F-1 SF ( -, - ) SK (, ) |2 d d, (1) {} x y x x y y x y x y где F-1 – обратное преобразование Фурье, (, ) и (, ) – компоненты пространственных x y x y частот в объектной плоскости и в плоскости изображения соответственно. Величины SB (, ), SF ( -, - ) и SK (, ) – спектры функций взаимной интенсивности, x y x x y y x y функции пропускания и когерентного импульсного отклика.

В данной работе мы ограничились рассмотрением скалярной модели дифракции, поскольку она позволяет без излишних усложнений исследовать вопросы о влиянии дифракционной ограниченности проекционной системы и частичной когерентности источника света на критические размеры, а также изучить особенности формирования оптического отклика для масок различных типов.

При численном моделировании формирования изображения функции SB и SK фиксированы и имеют, как правило, простой вид, так что скорость и точность вычисления интенсивности лимитируется главным образом тем, как определен спектр функции пропускания SF. В данной работе была получена формула для спектра функции пропускания произвольного N-многоугольника, которая является обобщением известных соотношений для прямоугольных и треугольных отверстий, задаваемых в области маски:

ei N -2i( xn + yn ) x y SF (vx,vy ) = ( fn + fn+1) (2) e 8 vxvy n=где fn = ( - kn ) /( + kn ), fN +1 = f1. Если kn (вертикальные отрезки) то предельный x y x y переход в (2) не представляет труда.

Pages:     || 2 |






© 2011 www.dissers.ru - «Бесплатная электронная библиотека»